镀(du)膜(mo)靶(ba)材是用(yong)物理(li)或化学(xue)的方(fang)法在(zai)靶材表面镀(du)上一层(ceng)透明的电(dian)解质膜，或(huo)镀一(yi)层(ceng)金(jin)属(shu)膜，目(mu)的(de)是改(gai)变(bian)靶(ba)材(cai)表(biao)面的反(fan)射(she)和透(tou)射特性。而镀(du)膜(mo)的方(fang)法有真空镀膜和(he)光学(xue)镀膜，有不(bu)少用(yong)户不(bu)知(zhi)道(dao)这二(er)者的(de)区(qu)别(bie)，凯泽金(jin)属(shu)通过(guo)多(duo)年的(de)钛(tai)靶、铬靶(ba)、镍(nie)靶、锆(gao)靶(ba)等(deng)不(bu)同(tong)金属材(cai)料的(de)镀膜(mo)，对(dui)于(yu)真空(kong)镀(du)膜和光学镀膜的(de)异同，结(jie)合(he)相关资(zi)料(liao)，整理如(ru)下(xia)：
一、真(zhen)空(kong)镀(du)膜概(gai)念
1、真空镀膜是指(zhi)在(zai)高(gao)真(zhen)空的(de)条(tiao)件(jian)下(xia)加(jia)热金(jin)属(shu)或(huo)非金属材(cai)料，使其(qi)蒸(zheng)发并(bing)凝结于(yu)镀件（金属、半导(dao)体或绝(jue)缘体）表(biao)面而形(xing)成薄膜(mo)的(de)一种方法。
2、真(zhen)空镀膜(mo)主要(yao)利(li)用(yong)辉(hui)光(guang)放(fang)电(dian)将(jiang)氩气离(li)子撞(zhuang)击靶材表(biao)面(mian)，靶(ba)材的(de)原(yuan)子被(bei)弹出(chu)而堆积在基(ji)板(ban)表(biao)面形成薄(bao)膜(mo)。溅镀(du)薄(bao)膜(mo)的性(xing)质(zhi)、均匀度都比(bi)蒸(zheng)镀薄(bao)膜(mo)来的好(hao)，但(dan)是(shi)镀(du)膜速(su)度(du)却比(bi)蒸镀慢很多(duo)。
二(er)、光(guang)学(xue)镀(du)膜概念
1、光学(xue)镀膜是指(zhi)在(zai)光学零(ling)件(jian)表(biao)面(mian)上镀上一层(ceng)（或多层(ceng)）金属（或介质(zhi)）薄膜(mo)的(de)工(gong)艺(yi)过(guo)程。在(zai)光(guang)学零件表(biao)面(mian)镀膜的(de)目的(de)是(shi)为(wei)了达(da)到减(jian)少或增(zeng)加光的(de)反射(she)、分束(shu)、分(fen)色(se)、滤(lv)光(guang)、偏振等(deng)要求(qiu)。
2、光(guang)学(xue)零(ling)件表(biao)面(mian)镀(du)膜(mo)后(hou)，光在膜层(ceng)层(ceng)上多次反射(she)和(he)透(tou)射(she)，形成(cheng)多光束(shu)干(gan)涉，控(kong)制(zhi)膜(mo)层(ceng)的折射(she)率和厚(hou)度(du)，可(ke)以得(de)到不同的(de)强度分(fen)布，这(zhe)是干(gan)涉(she)镀膜的基(ji)本原理。
三(san)、真空镀膜和光学(xue)镀(du)膜(mo)的区别
1、性质(zhi)不(bu)同(tong)
通过(guo)上(shang)面对真空镀(du)膜(mo)和光(guang)学(xue)镀膜(mo)的(de)概(gai)念(nian)介(jie)绍(shao)，我们(men)发现(xian)二者在(zai)性质(zhi)方面(mian)有(you)所(suo)不(bu)同(tong)。真空(kong)镀(du)膜(mo)是指(zhi)在高(gao)真空(kong)的条(tiao)件下(xia)加(jia)热(re)金属或(huo)非金(jin)属(shu)材料，使其(qi)蒸(zheng)发(fa)并凝结(jie)于(yu)镀(du)件表面(mian)而(er)形成薄(bao)膜的(de)一(yi)种(zhong)方法(fa)。而光(guang)学(xue)镀膜是(shi)指在(zai)光学零件表面上(shang)镀(du)上一层(ceng)金属或介质(zhi)薄(bao)膜(mo)的(de)工(gong)艺(yi)过(guo)程。
2、原理区(qu)别
（1）真(zhen)空镀(du)膜(mo)是(shi)真空(kong)应用(yong)领域(yu)的(de)一个重(zhong)要方(fang)面(mian)，它(ta)是(shi)以(yi)真空(kong)技(ji)术为基础，利(li)用(yong)物理或化(hua)学方法(fa)，并(bing)吸(xi)收电子(zi)束、分子束(shu)、离(li)子(zi)束、等(deng)离(li)子束、射(she)频和磁(ci)控等一(yi)系列新技(ji)术，为科(ke)学研(yan)究和(he)实(shi)际生(sheng)产(chan)提(ti)供(gong)薄(bao)膜(mo)制备(bei)的一种新(xin)工(gong)艺。简(jian)单地说，在(zai)真(zhen)空(kong)中(zhong)把(ba)金(jin)属(shu)、合金或(huo)化合物(wu)进(jin)行蒸(zheng)发(fa)或溅(jian)射(she)，使其在(zai)被(bei)涂覆(fu)的物体(ti)上(shang)凝(ning)固(gu)并(bing)沉积的(de)方法。
（2）光(guang)的(de)干(gan)涉(she)在(zai)薄(bao)膜光学中(zhong)广(guang)泛应(ying)用(yong)。光(guang)学薄膜(mo)技(ji)术的普(pu)遍(bian)方(fang)法(fa)是借助(zhu)真空(kong)溅(jian)射的(de)方式(shi)在玻(bo)璃基(ji)板(ban)上涂(tu)镀薄(bao)膜(mo)，一般用(yong)来控制(zhi)基板对(dui)入(ru)射光束(shu)的反射(she)率和透(tou)过(guo)率(lv)，以(yi)满(man)足不同的需(xu)要。为(wei)了消(xiao)除光学(xue)零(ling)件(jian)表(biao)面的(de)反射损失，提(ti)高成像质量，涂镀(du)一层或(huo)多层(ceng)透明(ming)介质膜(mo)，称为增(zeng)透(tou)膜(mo)或(huo)减(jian)反射(she)膜(mo)。
3、方(fang)法材(cai)料不同
（1）真空(kong)镀(du)膜的(de)方法
真(zhen)空(kong)蒸(zheng)镀(du)：将需(xu)镀膜的基体清(qing)洗(xi)后放(fang)到(dao)镀膜(mo)室(shi)，抽空后(hou)将膜(mo)料加热到(dao)高(gao)温(wen)，使(shi)蒸(zheng)气(qi)达(da)到约13.3Pa而使(shi)蒸(zheng)气分子(zi)飞(fei)到基(ji)体表(biao)面，凝结而(er)成薄(bao)膜。
阴极溅射(she)镀：将需镀膜的(de)基(ji)体放在阴极对(dui)面(mian)，把(ba)惰性(xing)气(qi)体(ti)(如氩(ya))通(tong)入(ru)已抽(chou)空(kong)的(de)室内(nei)，保持压强(qiang)约(yue)1.33～13.3Pa，然(ran)后将阴(yin)极(ji)接上2000V的直(zhi)流(liu)电源，便(bian)激发(fa)辉(hui)光(guang)放电，带(dai)正电(dian)的氩(ya)离(li)子撞(zhuang)击(ji)阴极，使其(qi)射出原子，溅(jian)射出的原(yuan)子(zi)通过惰性气(qi)氛沉积(ji)到(dao)基体上(shang)形(xing)成(cheng)膜。
化(hua)学气(qi)相沉(chen)积(ji)：通过热(re)分(fen)解(jie)所选(xuan)定(ding)的金(jin)属化合物或(huo)有机(ji)化(hua)合(he)物(wu)，获得沉积薄(bao)膜(mo)的(de)过(guo)程(cheng)。
离(li)子镀：实质(zhi)上离(li)子镀(du)系(xi)真(zhen)空(kong)蒸(zheng)镀和(he)阴极(ji)溅射镀(du)的有(you)机(ji)结合(he)，兼(jian)有(you)两者(zhe)的(de)工(gong)艺(yi)特(te)点。表6-9列出(chu)了(le)各种镀(du)膜(mo)方(fang)法的优缺(que)点(dian)。
（2）光学(xue)镀(du)膜(mo)的(de)材料
氟(fu)化(hua)镁(mei)：无(wu)色(se)四方(fang)晶(jing)系粉(fen)末(mo)，纯(chun)度(du)高(gao)，用其制(zhi)光(guang)学(xue)镀膜可(ke)提高透(tou)过率(lv)，不出崩(beng)点(dian)。
二氧(yang)化(hua)硅：无(wu)色透(tou)明(ming)晶体，熔点高，硬(ying)度大，化学(xue)稳(wen)定性(xing)好。纯(chun)度(du)高(gao)，用其(qi)制备(bei)高质量(liang)Si02镀膜，蒸发(fa)状态好，不(bu)出现(xian)崩(beng)点(dian)。按使用(yong)要求分为紫外、红(hong)外(wai)及可见光(guang)用。
氧(yang)化锆：白(bai)色重(zhong)质结晶态，具(ju)有(you)高(gao)的折射(she)率(lv)和耐(nai)高温性(xing)能(neng)，化(hua)学(xue)性质稳定(ding)，纯度高(gao)，用(yong)其(qi)制(zhi)备高(gao)质(zhi)量(liang)氧化锆镀(du)膜(mo)，不(bu)出(chu)崩(beng)点(dian)。
4、膜厚(hou)不同(tong)
真空镀膜(mo)一(yi)般金属(shu)材料(liao)电(dian)镀(du)出(chu)来(lai)的膜厚度(du)大概是3-5微(wei)米(mi)。光(guang)学镀膜(mo)的膜厚测试可以(yi)在(zai)镀(du)膜机的(de)中(zhong)间(jian)顶上(shang)装(zhuang)置膜厚(hou)测(ce)试仪即(ji)可。早期(qi)使用(yong)的(de)是光(guang)控测(ce)试(shi)，现(xian)在一(yi)般(ban)用(yong)晶振(zhen)片，使(shi)用的是(shi)晶振(zhen)片(pian)震(zhen)动(dong)的频率(lv)来(lai)测(ce)试(shi)镀(du)膜的(de)厚(hou)度。不(bu)同(tong)膜(mo)层(ceng)的(de)厚度(du)不(bu)同。
以上内容就(jiu)是真空镀(du)膜(mo)和(he)光(guang)学(xue)镀膜的异(yi)同的(de)介(jie)绍，希望能(neng)帮到大(da)家(jia)。真空镀膜的过程(cheng)很(hen)复杂(za)，只(zhi)是(shi)因(yin)为(wei)都需(xu)要高真空(kong)度而得名，光(guang)学镀膜的(de)镀膜材(cai)料都(dou)是(shi)稀有金属(shu)，这(zhe)些材(cai)料(liao)随(sui)着科(ke)技(ji)的发(fa)展(zhan)其需求可能(neng)会增(zeng)长。宝鸡市凯(kai)泽(ze)金属(shu)材料(liao)有(you)限公(gong)司(si)是一(yi)家研发(fa)生(sheng)产钛(tai)靶、铬(ge)靶(ba)、锆(gao)靶(ba)、镍靶(ba)、钛(tai)铝靶、钛丝(si)、钛加(jia)工件(jian)、钛(tai)锻(duan)件(jian)等金属材料为(wei)主(zhu)的高新技术企业，十余(yu)年专注(zhu)于溅(jian)射(she)靶材、镀膜靶(ba)材、平(ping)面多(duo)弧靶(ba)材(cai)研(yan)发(fa)、生(sheng)产(chan)，靶材(cai)组织结(jie)构(gou)均(jun)匀、溅(jian)射成膜性(xing)能优异，如(ru)果(guo)您对(dui)靶(ba)材有疑(yi)问或(huo)需(xu)要(yao)，欢(huan)迎(ying)联系(xi)凯(kai)泽(ze)金(jin)属。
相(xiang)关链(lian)接
