硬质涂(tu)层是通(tong)过(guo)气(qi)相沉(chen)积(ji)法(fa)，在(zai)硬(ying)质合金(jin)刀片(pian)表面上(shang)涂覆(fu)耐磨的(de)碳化(hua)钛、氧(yang)化(hua)铝(lv)等(deng)薄(bao)层(ceng)，从(cong)而(er)形(xing)成(cheng)表面(mian)涂(tu)层(ceng)硬(ying)质(zhi)合金(jin)，这种(zhong)涂(tu)层(ceng)材(cai)料(liao)耐磨(mo)性(xing)好(hao)，耐腐(fu)蚀(shi)，且耐高温(wen)氧(yang)化，在(zai)切削刀具(ju)和耐磨(mo)零(ling)部件(jian)等机械(xie)加工(gong)行业中得(de)到广(guang)泛(fan)使用(yong)。在(zai)硬质涂层沉积的时候(hou)，需要利用到(dao)镀膜(mo)靶(ba)材来进行沉(chen)积，所以靶材能够影响到(dao)硬质(zhi)涂层(ceng)各(ge)方(fang)面的性能和(he)使(shi)用效(xiao)果(guo)。因此这就(jiu)对(dui)硬质涂层用(yong)镀膜靶(ba)材(cai)的要求(qiu)较高(gao)，凯(kai)泽(ze)金属结(jie)合(he)相(xiang)关资(zi)料，分(fen)享(xiang)如(ru)下(xia)：
一(yi)、硬质(zhi)涂层用(yong)镀(du)膜(mo)靶(ba)材的(de)技(ji)术(shu)要(yao)求
1、靶材纯度(du)
靶材(cai)的纯(chun)度对(dui)溅(jian)射(she)薄膜(mo)的(de)性(xing)能(neng)影(ying)响很(hen)大。靶材的(de)纯度越高(gao)，溅(jian)射薄(bao)膜的均(jun)匀(yun)性越好，性(xing)能越高。影(ying)响(xiang)靶(ba)材(cai)纯度的(de)主(zhu)要(yao)因(yin)素(su)是(shi)杂质含量(liang)，杂质(zhi)的来(lai)源(yuan)广泛，包括熔(rong)炼(lian)铸(zhu)造(zao)过程中的(de)夹杂物和粉(fen)末原(yuan)料(liao)中(zhong)的氧(yang)气(qi)和(he)水等。靶(ba)材(cai)作(zuo)为(wei)溅射(she)中(zhong)的(de)阴(yin)极(ji)，固体(ti)中的(de)杂质(zhi)和气孔(kong)中的(de)O2和(he)H2O在(zai)沉(chen)积(ji)过(guo)程中(zhong)，容易在(zai)薄膜表面(mian)形(xing)成(cheng)熔(rong)滴和(he)孔洞(dong)。
2、致(zhi)密(mi)度(du)
靶(ba)材的致(zhi)密(mi)度不仅影响溅射时的沉积速率(lv)、溅(jian)射膜粒(li)子(zi)的密(mi)度(du)和放(fang)电(dian)现(xian)象等，还影(ying)响着(zhe)溅(jian)射(she)薄(bao)膜(mo)的(de)物理(li)和力学性能(neng)。靶材致(zhi)密(mi)度越(yue)高，溅射膜粒(li)子的(de)密度越低，放电现象越(yue)弱，薄(bao)膜的(de)性(xing)能也越(yue)好；致(zhi)密(mi)度(du)低(di)的靶材在溅(jian)射(she)过(guo)程中(zhong)，存在于靶(ba)材(cai)孔(kong)隙中的(de)气(qi)体突(tu)然释放(fang)，造成大(da)尺(chi)寸的材料颗粒或(huo)微粒飞溅(jian)，或(huo)在成(cheng)膜之(zhi)后(hou)薄膜受(shou)到(dao)二次(ci)电(dian)子的(de)轰(hong)击(ji)产生微(wei)粒(li)，这(zhe)些(xie)微(wei)粒(li)的(de)出(chu)现将严重影响(xiang)硬(ying)质涂(tu)层(ceng)质量(liang)。
3、成(cheng)分(fen)与结(jie)构(gou)均(jun)匀(yun)性
成分与结(jie)构(gou)均(jun)匀(yun)性是(shi)考(kao)察(cha)靶材(cai)质(zhi)量的重(zhong)要(yao)指标(biao)之一(yi)。对(dui)于复相结构的合(he)金靶(ba)材和混(hun)合(he)靶(ba)材(cai)，不(bu)仅要求(qiu)成(cheng)分(fen)的(de)均匀性，还(hai)要求组织结构(gou)的均匀(yun)性。只有(you)靶(ba)材的(de)成(cheng)分(fen)和结(jie)构(gou)均(jun)匀(yun)，在(zai)后期镀膜(mo)过程中(zhong)才能均(jun)匀(yun)地(di)溅(jian)射(she)在(zai)基体(ti)上(shang)；如(ru)果(guo)均(jun)匀(yun)性(xing)不好(hao)，沉积出来(lai)的薄膜均匀性(xing)也(ye)会(hui)受到(dao)影响，容(rong)易出(chu)现孔洞(dong)、间(jian)隙、凸(tu)起等(deng)缺陷(xian)。
4、晶粒尺寸和取(qu)向
靶材的(de)晶粒尺寸(cun)越(yue)细小(xiao)，沉(chen)积的薄(bao)膜(mo)厚(hou)度(du)分布越均(jun)匀，溅射(she)速(su)率(lv)越快(kuai)。在(zai)靶(ba)材的(de)溅射沉积镀膜过程(cheng)中发(fa)现(xian)，合(he)金靶材(cai)具(ju)有(you)择(ze)优溅射(she)现(xian)象(xiang)，这严(yan)重(zhong)影响(xiang)到薄膜的化(hua)学(xue)组(zu)成(cheng)，因(yin)此控(kong)制(zhi)合金(jin)靶材(cai)中(zhong)的(de)晶粒(li)取向显(xian)得(de)尤(you)为(wei)重要(yao)。
5、几(ji)何形状与尺(chi)寸
主(zhu)要(yao)体(ti)现在(zai)加工精度和质量方面(mian)，如(ru)表(biao)面粗糙度(du)和(he)平整度(du)等。检查(cha)靶(ba)材表(biao)面(mian)有无(wu)开(kai)裂(lie)、缩孔和难(nan)熔(rong)不(bu)熔(rong)物(wu)等。靶(ba)材对表(biao)面(mian)质量的(de)控制(zhi)极为(wei)严(yan)格，表(biao)面(mian)质(zhi)量(liang)缺(que)陷对后(hou)续(xu)的(de)溅(jian)射镀膜均匀性影响(xiang)很(hen)大。
二(er)、硬(ying)质涂层用(yong)镀膜(mo)靶(ba)材的性(xing)能(neng)要(yao)求
硬质涂(tu)层(ceng)用镀膜(mo)靶材的(de)性能(neng)要求(qiu)主要是对(dui)溅(jian)射(she)靶材(cai)的(de)热(re)导(dao)率(lv)、电导(dao)率(lv)和(he)热膨胀系数的(de)要求(qiu)。因溅射(she)导(dao)致(zhi)靶(ba)材的(de)温(wen)度升(sheng)高(gao)，热导率越(yue)高(gao)热量传(chuan)递的(de)越(yue)快(kuai)，靶材(cai)离(li)子的蒸(zheng)发效(xiao)果越好(hao)，沉积(ji)效(xiao)率(lv)越(yue)高；靶(ba)材(cai)与(yu)基材的热(re)膨胀系数(shu)的(de)差值(zhi)越小越(yue)好(hao)，借以(yi)减(jian)小热应力(li)的(de)影响(xiang)。
综(zong)上(shang)，硬质(zhi)涂(tu)层用(yong)镀膜靶(ba)材的(de)要(yao)求有两(liang)方(fang)面，一是(shi)技术要求，包括靶(ba)材的(de)纯度(du)、致密(mi)度、成(cheng)分与(yu)结(jie)构均(jun)匀(yun)性等；二是(shi)性能(neng)要(yao)求(qiu)，主(zhu)要是是(shi)对(dui)溅(jian)射(she)靶材(cai)的热导(dao)率(lv)、电导(dao)率(lv)和(he)热(re)膨胀系(xi)数的(de)要求(qiu)。凯泽(ze)金(jin)属专(zhuan)注生(sheng)产各种(zhong)溅射(she)靶(ba)材(cai)，铬靶、镍(nie)靶(ba)、锆靶、铝靶(ba)材(cai)等(deng)的深(shen)加(jia)工(gong)，产(chan)品(pin)纯度(du)高，还可进行(xing)有关使用方面(mian)的(de)技术(shu)指导，如(ru)果您有需要，欢迎(ying)联(lian)系凯泽(ze)金(jin)属(shu)详(xiang)询。
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