溅射钼(mu)靶(ba)材(cai)因其自身(shen)优(you)点，已(yi)经(jing)在电(dian)子(zi)行(xing)业、太(tai)阳(yang)能(neng)电池(chi)、玻璃镀膜(mo)等(deng)方面(mian)得到(dao)了(le)广(guang)泛的应(ying)用(yong)。随(sui)着(zhe)现(xian)代科(ke)技(ji)微型化、集(ji)成(cheng)化(hua)、数(shu)字(zi)化(hua)、智(zhi)能(neng)化(hua)的(de)快(kuai)速(su)发(fa)展，钼靶材(cai)的(de)用(yong)量将(jiang)持续增长(zhang)，对其质量(liang)要求也(ye)必(bi)将(jiang)越来(lai)越(yue)高。所(suo)以(yi)有(you)必要(yao)对钼(mu)靶(ba)材(cai)的(de)利用(yong)率(lv)进行(xing)提高(gao)，凯(kai)泽(ze)金属将提高溅(jian)射钼(mu)靶(ba)材利用(yong)率的(de)措施(shi)，结(jie)合(he)相关资(zi)料，分(fen)享(xiang)如下(xia)：
如何(he)提(ti)高溅射钼(mu)靶材(cai)利用率？
1、背(bei)面加电磁(ci)线圈(quan)
想(xiang)提(ti)高溅(jian)射(she)钼(mu)靶材(cai)的利(li)用率(lv)，可(ke)以(yi)在(zai)平面(mian)的磁控(kong)溅(jian)射钼靶(ba)材(cai)的背面(mian)加上(shang)一(yi)圈(quan)电磁线(xian)圈，通过(guo)电磁线(xian)圈的电(dian)流(liu)来改(gai)变(bian)钼(mu)靶(ba)材表(biao)面(mian)的(de)磁(ci)场大(da)小，以提高(gao)钼靶材(cai)的利(li)用(yong)率(lv)。除(chu)提(ti)高利(li)用(yong)率(lv)外(wai)，还能(neng)提高溅(jian)射(she)效率(lv)。
2、采(cai)用(yong)管(guan)状(zhuang)旋(xuan)转(zhuan)靶(ba)材
相比(bi)平(ping)面(mian)靶(ba)材(cai)，采用管(guan)状(zhuang)旋转靶(ba)材(cai)结构(gou)的(de)设(she)计显示(shi)出它的实质性优(you)势，一(yi)般平(ping)面(mian)靶材(cai)的(de)利(li)用率低(di)，仅(jin)为(wei)仅为(wei)30%~50%，所以现在(zai)很多(duo)厂家(jia)都在(zai)应(ying)用(yong)旋转空(kong)心圆(yuan)管(guan)磁(ci)控溅(jian)射(she)靶，其优(you)点(dian)是(shi)靶(ba)材(cai)可绕固定的(de)条状磁(ci)铁(tie)组件(jian)旋转(zhuan)，靶(ba)面(mian)360°可(ke)被(bei)均(jun)匀(yun)刻蚀，其利用率可(ke)从平面(mian)靶材的(de)30% ~ 50%增(zeng)加到80%以(yi)上。此(ci)外(wai)，旋转(zhuan)靶(ba)的(de)寿命(ming)要(yao)比(bi)平面靶材(cai)高(gao)5倍。由于(yu)旋转(zhuan)靶(ba)材在溅射(she)过程中不(bu)停(ting)的旋(xuan)转(zhuan)，在它(ta)的(de)表面不会产生重(zhong)沉积现象(xiang)。
3、更换(huan)新型(xing)溅(jian)射(she)设(she)备(bei)
提高(gao)靶(ba)材利(li)用率的关键在(zai)于实现(xian)溅射设备的(de)更新换代。钼(mu)溅(jian)射靶(ba)材(cai)在(zai)溅射(she)过程(cheng)中(zhong)靶材(cai)原子(zi)被氢(qing)离子撞击(ji)出(chu)来后(hou)，约由六(liu)分(fen)之(zhi)一的(de)溅(jian)射(she)原子会(hui)淀(dian)积到(dao)真空室内(nei)壁或(huo)支(zhi)架(jia)上，增加(jia)清洁(jie)真(zhen)空设(she)备(bei)的(de)费用(yong)及(ji)停机时间(jian)。所以设备的(de)更新(xin)也有(you)助(zhu)于(yu)提高溅射钼靶(ba)材的(de)利(li)用(yong)率(lv)。
上述就是(shi)对(dui)如(ru)何提(ti)高(gao)溅射(she)钼(mu)靶材(cai)利(li)用(yong)率的(de)回答，要(yao)提(ti)高(gao)钼(mu)溅(jian)射靶(ba)材的(de)利(li)用率和溅射(she)效率(lv)，一(yi)种(zhong)是(shi)背(bei)面加电磁线(xian)圈(quan)，另一种(zhong)是(shi)改(gai)平面(mian)靶(ba)材(cai)为(wei)管(guan)状旋(xuan)转(zhuan)靶材(cai)，还有就(jiu)是(shi)通(tong)过更新换代溅射(she)设备和增(zeng)加(jia)靶材(cai)规(gui)格(ge)。随着电(dian)子行(xing)业及(ji)太阳能电池的(de)发展，钼靶材(cai)作(zuo)为高附加值电子(zi)材料(liao)的(de)用(yong)量在(zai)逐(zhu)年增加(jia)，所(suo)以(yi)提(ti)高提高(gao)溅(jian)射钼靶材利(li)用(yong)率是很有(you)必要的(de)一(yi)项(xiang)措施(shi)。凯(kai)泽金属(shu)可(ke)提供(gong)高(gao)纯(chun)度(du)的(de)钼靶(ba)材(cai)，如果(guo)您有(you)需要，欢迎在(zai)我们网站(zhan)留言(yan)或(huo)来(lai)电(dian)联系(xi)凯泽(ze)金属。
相(xiang)关链(lian)接(jie)
