高(gao)纯(chun)铬(ge)靶(ba)的(de)两(liang)种制(zhi)备(bei)方法简述

目前(qian)，铬(ge)靶的制备(bei)主(zhu)要(yao)包括(kuo)特(te)殊的熔(rong)融(rong)法和粉(fen)末冶(ye)金法。

特殊的(de)熔化方(fang)法：将(jiang)具(ju)有(you)一定组(zu)成比的合金原(yuan)料(liao)熔(rong)化，然后(hou)将(jiang)合金溶(rong)液倒入模具中形成(cheng)铸锭，最(zui)后机(ji)加(jia)工(gong)成(cheng)目(mu)标(biao)材(cai)料(liao)。 铬(ge)靶(ba)铸造(zao)方(fang)法(fa)是在(zai)真空中熔炼(lian)和(he)铸(zhu)造(zao)的。常用(yong)的(de)熔炼(lian)方法(fa)包括(kuo)真空感应熔(rong)炼，真(zhen)空(kong)电弧(hu)熔炼(lian)和真空电子(zi)轰击(ji)熔炼等。其优(you)点是靶(ba)材(cai)杂(za)质含量(liang)低(di)，密度高，可大规模(mo)生产。 缺点是铌(ni)靶、铬(ge)靶熔(rong)点和(he)密(mi)度存在两(liang)种或(huo)两(liang)种差异很(hen)大(da)。

粉(fen)末(mo)冶金(jin)：将一定比例的(de)合金(jin)原料(liao)熔炼(lian)成铸(zhu)锭，然(ran)后(hou)进(jin)行粉碎(sui)。通过(guo)等(deng)静压形成粉碎的(de)粉末(mo)，然(ran)后在高温下(xia)烧结以(yi)最终(zhong)形(xing)成

铬靶(ba)。 其(qi)优点是目(mu)标成(cheng)分(fen)均(jun)匀(yun)。 缺(que)点(dian)是(shi)密度(du)低(di)和杂(za)质(zhi)含量高(gao)。 常(chang)用的(de)粉末冶(ye)金(jin)工艺包括(kuo)冷(leng)压，真空(kong)热(re)压(ya)和(he)热等静压。

铬靶材(cai)料的过程：通过金(jin)属(shu)冶(ye)炼，粉末(mo)冶(ye)金(jin)，非(fei)金属(shu)粉(fen)末法(fa)，真空冶炼，普通热压，冷压烧(shao)结等(deng)方法(fa)，通(tong)过锻(duan)造(zao)，热轧或冷(leng)轧(ya)再(zai)加热成(cheng)型 处(chu)理以消除型材(cai)的(de)应(ying)力并通(tong)过高温烧(shao)结(jie)使(shi)其(qi)均(jun)匀(yun)化或提(ti)高其致密(mi)性(xing)，然后在(zai)加工(gong)的型(xing)材(cai)上执(zhi)行(xing)机(ji)加(jia)工工(gong)艺，有时根(gen)据(ju)需(xu)要，一(yi)些铌靶(ba)、铬(ge)靶(ba)靶(ba)材(cai)会(hui)被(bei)金(jin)属(shu)化(hua)并与(yu)无氧铜背(bei)板结(jie)合。

几(ji)乎所(suo)有(you)新(xin)的(de)溅射(she)设(she)备都(dou)使用(yong)强大的(de)磁体以(yi)螺(luo)旋运(yun)动方式移(yi)动(dong)电子(zi)，以(yi)加速氩气在靶(ba)材(cai)周(zhou)围(wei)的(de)电(dian)离(li)，这(zhe)增(zeng)加了靶材(cai)与(yu)氩离子之间(jian)的碰(peng)撞(zhuang)概率(lv)并提(ti)高了溅射速(su)率。通(tong)常，金(jin)属涂(tu)层通常(chang)使用(yong)DC溅射(she)，而(er)非(fei)导电陶(tao)瓷(ci)材料使(shi)用(yong)RF AC溅(jian)射(she)。高纯铬靶基(ji)本(ben)原(yuan)理(li)是使(shi)用辉(hui)光(guang)放(fang)电(dian)在(zai)真(zhen)空(kong)中撞击(ji)靶表面(mian)的氩(ya)离子，等(deng)离子体(ti)中的阳(yang)离子会加速(su)撞击(ji)。作(zuo)为要溅射(she)的材(cai)料，在负极(ji)表(biao)面上(shang)，这种冲击将(jiang)导(dao)致目(mu)标(biao)材料飞(fei)出(chu)并(bing)沉积在基(ji)板(ban)上，高(gao)纯(chun)铬(ge)靶(ba)从而(er)形(xing)成薄(bao)膜(mo)。

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