目(mu)前(qian)，铬(ge)靶(ba)材(cai)的制(zhi)备(bei)主要包(bao)括特殊(shu)的熔融(rong)法和(he)粉(fen)末冶金(jin)法。具体方(fang)法，凯泽金(jin)属(shu)结合相(xiang)关(guan)资(zi)料，整(zheng)理(li)如下：
特(te)殊的熔化(hua)方(fang)法(fa)：将(jiang)具有一(yi)定(ding)组成(cheng)比(bi)的合金原(yuan)料熔(rong)化，然(ran)后(hou)将合金溶(rong)液倒入模具中形成(cheng)铸锭(ding)，最后机加工成目(mu)标(biao)材(cai)料(liao)。 铬靶(ba)铸(zhu)造(zao)方(fang)法(fa)是在真(zhen)空中熔炼和铸(zhu)造的(de)。常(chang)用的熔(rong)炼(lian)方法包括(kuo)真空(kong)感(gan)应(ying)熔(rong)炼(lian)，真(zhen)空(kong)电弧熔(rong)炼(lian)和真空电(dian)子轰击熔(rong)炼等。其优点是靶(ba)材(cai)杂质(zhi)含量低(di)，密(mi)度(du)高，可(ke)大规(gui)模生(sheng)产。缺(que)点是铌靶、铬靶熔(rong)点和密(mi)度存在两种或两种(zhong)差(cha)异很(hen)大(da)。
粉末冶(ye)金(jin)：将(jiang)一定(ding)比(bi)例(li)的合(he)金原料(liao)熔炼(lian)成铸锭(ding)，然后(hou)进行(xing)粉(fen)碎。通过(guo)等静压(ya)形成(cheng)粉(fen)碎的(de)粉末，然后(hou)在(zai)高(gao)温(wen)下烧结(jie)以最终形成(cheng)铬(ge)靶。 其(qi)优点(dian)是(shi)目(mu)标(biao)成分均(jun)匀(yun)。 缺(que)点是密(mi)度(du)低(di)和(he)杂质含(han)量(liang)高(gao)。 常用的粉(fen)末(mo)冶金(jin)工(gong)艺(yi)包括冷压(ya)，真空热(re)压和(he)热(re)等(deng)静压(ya)。
铬靶(ba)材料(liao)的(de)过(guo)程：通(tong)过(guo)金属冶(ye)炼，粉(fen)末(mo)冶金，非金属(shu)粉(fen)末法，真空(kong)冶(ye)炼(lian)，普(pu)通(tong)热(re)压，冷(leng)压烧(shao)结等(deng)方法(fa)，通(tong)过(guo)锻(duan)造，热(re)轧或冷(leng)轧(ya)再加(jia)热(re)成(cheng)型(xing) 处(chu)理以(yi)消(xiao)除型材(cai)的应力(li)并通过高温(wen)烧(shao)结(jie)使其(qi)均(jun)匀(yun)化或(huo)提(ti)高其(qi)致密(mi)性(xing)，然(ran)后(hou)在加工的(de)型(xing)材(cai)上执行机加工(gong)工艺(yi)，有时(shi)根据(ju)需要，一(yi)些铌靶(ba)、铬(ge)靶(ba)材会被金属化(hua)并与(yu)无(wu)氧(yang)铜(tong)背(bei)板结合(he)。
几乎(hu)所(suo)有(you)新的溅(jian)射设备都使(shi)用强大(da)的磁(ci)体(ti)以螺(luo)旋运(yun)动方式移(yi)动电子(zi)，以加速(su)氩(ya)气在(zai)靶(ba)材周(zhou)围的电离(li)，这增(zeng)加(jia)了靶材与(yu)氩离(li)子(zi)之(zhi)间的(de)碰(peng)撞概率并(bing)提高(gao)了溅(jian)射速(su)率。通(tong)常(chang)，金(jin)属涂层通(tong)常使(shi)用(yong)DC溅射(she)，而(er)非(fei)导电陶(tao)瓷(ci)材料使用RF AC溅射(she)。高纯铬靶基本(ben)原理是使用(yong)辉光放电(dian)在真(zhen)空(kong)中(zhong)撞击(ji)靶(ba)表(biao)面(mian)的(de)氩(ya)离子，等(deng)离子(zi)体中的阳离(li)子(zi)会加(jia)速撞击。作(zuo)为(wei)要溅射的(de)材(cai)料，在(zai)负(fu)极表(biao)面(mian)上，这种(zhong)冲击(ji)将(jiang)导(dao)致目(mu)标(biao)材料飞出(chu)并(bing)沉积(ji)在(zai)基(ji)板上，高(gao)纯铬靶(ba)从(cong)而(er)形成(cheng)薄膜。
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