高纯(chun)铬靶(ba)铌(ni)靶(ba)铬(ge)靶(ba)等金(jin)属靶材的(de)两(liang)种制(zhi)备(bei)方法

目(mu)前，铌靶(ba)、铬靶(ba)的制(zhi)备主(zhu)要包括(kuo)特(te)殊(shu)的(de)熔(rong)融法和(he)粉末(mo)冶(ye)金(jin)法。

特殊(shu)的(de)熔化(hua)方(fang)法(fa)：将(jiang)具(ju)有(you)一定组成比的(de)合金原料(liao)熔化，然(ran)后将合金溶(rong)液倒入模(mo)具中(zhong)形成铸锭(ding)，最后(hou)机加工成(cheng)目标材(cai)料。 铌(ni)靶、铬靶(ba)铸造方法(fa)是在(zai)真(zhen)空中熔(rong)炼和铸(zhu)造(zao)的。常用的熔炼(lian)方法(fa)包(bao)括真(zhen)空(kong)感应(ying)熔(rong)炼，真空(kong)电(dian)弧熔(rong)炼和真(zhen)空电子(zi)轰(hong)击熔(rong)炼(lian)等(deng)。其(qi)优点是靶(ba)材杂(za)质含量(liang)低(di)，密(mi)度(du)高(gao)，可(ke)大(da)规(gui)模(mo)生(sheng)产。 缺(que)点(dian)是铌(ni)靶(ba)、铬靶(ba)熔点(dian)和(he)密度存(cun)在(zai)两种(zhong)或两种(zhong)差(cha)异很大(da)。

粉末(mo)冶(ye)金：将一(yi)定(ding)比例(li)的合金原料(liao)熔炼成(cheng)铸锭，然后(hou)进行粉碎(sui)。通(tong)过(guo)等(deng)静(jing)压形(xing)成粉碎的(de)粉末，然(ran)后在(zai)高温下烧(shao)结(jie)以最(zui)终形(xing)成铌靶、铬(ge)靶(ba)。 其优(you)点是(shi)目标成分均匀。 缺点(dian)是密度低和杂质(zhi)含(han)量高(gao)。 常用(yong)的(de)粉(fen)末(mo)冶金(jin)工(gong)艺(yi)包(bao)括冷(leng)压，真(zhen)空(kong)热压(ya)和热等(deng)静(jing)压。

铌(ni)靶(ba)、铬靶材(cai)料(liao)的(de)过(guo)程(cheng)：通(tong)过(guo)金属(shu)冶炼，粉(fen)末(mo)冶(ye)金(jin)，非金属(shu)粉(fen)末法，真空(kong)冶(ye)炼，普(pu)通热(re)压(ya)，冷压(ya)烧结等方法，通(tong)过锻(duan)造(zao)，热(re)轧(ya)或冷(leng)轧(ya)再加热成(cheng)型(xing) 处理以(yi)消(xiao)除型材(cai)的(de)应力(li)并通过(guo)高(gao)温(wen)烧(shao)结使(shi)其均(jun)匀(yun)化或(huo)提(ti)高其致(zhi)密性(xing)，然(ran)后(hou)在加(jia)工的(de)型(xing)材上(shang)执行机(ji)加(jia)工工(gong)艺，有(you)时根据需(xu)要，一(yi)些铌(ni)靶、铬(ge)靶靶(ba)材会被(bei)金(jin)属化(hua)并与(yu)无氧铜(tong)背(bei)板结合。

几乎(hu)所(suo)有新的(de)溅(jian)射(she)设备(bei)都(dou)使(shi)用(yong)强大(da)的(de)磁体(ti)以(yi)螺(luo)旋(xuan)运动方式移动电子(zi)，以(yi)加速氩气(qi)在靶(ba)材周围的电离(li)，这(zhe)增加(jia)了(le)靶(ba)材与氩(ya)离子(zi)之(zhi)间(jian)的(de)碰(peng)撞概率(lv)并提(ti)高(gao)了(le)溅射速率。通常，金属(shu)涂(tu)层(ceng)通(tong)常使(shi)用DC溅射(she)，而(er)非导电陶(tao)瓷材料使用(yong)RF AC溅射。高(gao)纯铬靶基本(ben)原理(li)是(shi)使用辉(hui)光放电在真(zhen)空(kong)中(zhong)撞击(ji)靶表面(mian)的(de)氩离(li)子(zi)，等(deng)离子(zi)体(ti)中的(de)阳离子会加速撞(zhuang)击(ji)。作(zuo)为要溅(jian)射的材(cai)料，在(zai)负极(ji)表(biao)面上，这(zhe)种(zhong)冲击将导致目(mu)标材料(liao)飞出(chu)并沉积在基板上(shang)，高(gao)纯(chun)铬靶(ba)从(cong)而(er)形(xing)成薄膜。

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