源头(tou)厂(chang)家(jia)定(ding)制铬靶材(cai) 钛靶材 镍靶材(cai) 材质保证(zheng) 规格齐(qi)全(quan)

一、产(chan)品名(ming)称：铬(ge)靶材(cai)、铬(ge)靶(ba)块(kuai) 

凯泽(ze)金属(shu)铬(ge)靶(ba)材(cai)规格：

圆靶（直(zhi)径φ1"-φ14"，厚(hou)度(du)0.5-15mm）

板(ban)靶(长<500mm，宽(kuan)<500mm，高(gao)<25mm）

管(guan)靶(ba)（外(wai)直径φ3.0mm-φ300mm,内直(zhi)径φ2.0mm-280mm）

材料(liao)纯度：>99.995%

金(jin)属杂质(zhi)含量：（Al/Fe/Ca/Mg/Cu/Co/Ni/Ti/Mn/Si/Na/K//P/W/Mo/Zn/Sn）：<10ppm

平(ping)整(zheng)度（TIR）:<20μm

局部平(ping)整(zheng)度(du)（STIR）:<10μm

翘曲(qu)度(du)（Warp）:<50μm

二、产(chan)品名(ming)称(cheng)：钛靶材(cai)，钛(tai)圆(yuan)柱(zhu)靶、钛(tai)靶(ba)管(guan)

牌号：TA1，GR1

执行标(biao)准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97

用途(tu)：钛靶材(cai)用(yong)于(yu)半导体(ti)分(fen)离(li)器件、平面(mian)显示器、储(chu)存器电极(ji)薄(bao)膜(mo)、溅射镀膜、工件表(biao)面涂层(ceng)，玻(bo)璃镀(du)膜(mo)工(gong)业等领域(yu)。

三、产(chan)品(pin)名称(cheng)：镍(nie)靶(ba)材

牌号：N6, N4

用(yong)途：镍(nie)靶(ba)材(cai)用于(yu)半导体(ti)分离(li)器(qi)件(jian)、平面显(xian)示(shi)器(qi)、储存(cun)器(qi)电(dian)极(ji)薄(bao)膜、溅(jian)射(she)镀(du)膜、工(gong)件表面涂层，玻璃(li)镀(du)膜工业(ye)等(deng)。

相关(guan)链接