在(zai)现(xian)在(zai)电子元件(jian)制作中(zhong)，靶(ba)材(cai)是十(shi)分(fen)重要(yao)的一种零(ling)件，需(xu)求量很(hen)大。那么靶(ba)材(cai)在制(zhi)备(bei)时(shi)有(you)什(shen)么要(yao)求？它(ta)的选(xuan)用原(yuan)则又是(shi)怎样(yang)的，凯泽金(jin)属(shu)结合(he)资(zi)料(liao)，将其(qi)整(zheng)理如(ru)下：
一(yi)、靶材的制(zhi)备(bei)要求
1、纯(chun)度
制备(bei)靶(ba)材要求(qiu)材(cai)料(liao)的杂(za)质含量(liang)低纯度高(gao)，靶(ba)材(cai)的纯度(du)会(hui)对(dui)薄(bao)膜(mo)的(de)均匀(yun)性(xing)产生(sheng)影(ying)响，纯度(du)越(yue)高，制(zhi)作出来的(de)靶(ba)材耐(nai)蚀性、电(dian)学(xue)和光(guang)学(xue)性能越好(hao)。但(dan)不同(tong)用途(tu)的(de)靶材对(dui)纯(chun)度的(de)要(yao)求也(ye)不(bu)同，比如(ru)说(shuo)，在工(gong)业中(zhong)使用(yong)的(de)靶(ba)材(cai)对于纯度的(de)要(yao)求就(jiu)不(bu)太高(gao)；但半导体(ti)、显(xian)示(shi)器(qi)等领域的(de)靶(ba)材对(dui)于(yu)纯(chun)度的(de)要求还(hai)是比(bi)较高(gao)的。
2、高致密(mi)度
靶(ba)材一般要(yao)求(qiu)要(yao)有(you)较(jiao)高的致(zhi)密度(du)，较(jiao)高(gao)的致(zhi)密度(du)能够(gou)减少靶(ba)材中(zhong)的(de)气(qi)孔，提(ti)高(gao)薄膜的(de)性能。而(er)且靶(ba)材(cai)的致(zhi)密(mi)度(du)除了(le)会(hui)影(ying)响在溅(jian)射(she)时的沉(chen)积(ji)速度(du)、溅(jian)射膜(mo)粒(li)子(zi)的密(mi)度(du)外，还会对靶材(cai)溅(jian)射(she)薄(bao)膜(mo)的(de)电(dian)学性能和光学(xue)性能(neng)产生影(ying)响。
靶材(cai)的致密(mi)性(xing)越(yue)好，它的导电(dian)性和导热(re)性(xing)就越好，这(zhe)样(yang)的(de)靶(ba)材使用起(qi)来溅(jian)射功(gong)率(lv)小，成(cheng)膜(mo)的(de)速度(du)也(ye)越(yue)快，制(zhi)成(cheng)的(de)薄膜也(ye)不(bu)容(rong)易开(kai)裂，能(neng)够延(yan)长(zhang)靶(ba)材(cai)的(de)使用(yong)时(shi)间(jian)。
3、成分(fen)与组(zu)织(zhi)结构(gou)均(jun)匀
靶(ba)材(cai)成分(fen)均匀会(hui)对(dui)镀膜质量产生(sheng)影(ying)响(xiang)，特(te)别是对(dui)于(yu)复(fu)相结(jie)构的合金(jin)靶(ba)材与(yu)混(hun)合靶材。
4、晶粒(li)尺寸(cun)
靶(ba)材的(de)晶粒(li)尺(chi)寸也(ye)会(hui)影(ying)响靶材的性(xing)能，靶材(cai)的(de)晶粒(li)尺(chi)寸(cun)越细小(xiao)，溅(jian)射镀膜(mo)的厚度(du)就(jiu)会分(fen)布(bu)的更均匀，溅射的(de)速度(du)也(ye)就(jiu)越(yue)快。
二、靶材(cai)的(de)选(xuan)用原则(ze)
1、靶(ba)材在镀(du)膜成(cheng)型(xing)后应该(gai)具(ju)备良(liang)好的机械(xie)强(qiang)度和(he)化(hua)学(xue)稳(wen)定(ding)性(xing)。
2、靶材(cai)需要选取(qu)与(yu)基体(ti)有(you)着较好(hao)结(jie)合力的(de)膜(mo)材，且(qie)与基(ji)体集(ji)合(he)牢(lao)固(gu)，在(zai)溅(jian)射(she)一(yi)层底膜之(zhi)后才能(neng)进行所需(xu)模具(ju)的(de)制(zhi)备(bei)。
3、用(yong)作反应溅射(she)成(cheng)膜的膜(mo)材需要(yao)能够较为(wei)容易地(di)与(yu)反(fan)应(ying)气(qi)体集合(he)生成化(hua)合物(wu)膜(mo)。
4、在(zai)能够满足(zu)膜性能要(yao)求的(de)前提(ti)下，靶材(cai)与(yu)基体的热(re)膨(peng)胀(zhang)系数的(de)差值越(yue)小(xiao)越好(hao)，这(zhe)样(yang)能够(gou)减(jian)小(xiao)溅(jian)射(she)膜热应(ying)力的(de)影响。
5、根(gen)据(ju)膜的用(yong)途和性(xing)能要(yao)求(qiu)不(bu)同(tong)，选择(ze)使(shi)用的靶(ba)材(cai)的要(yao)求也(ye)不同(tong)，所(suo)选(xuan)用(yong)的靶(ba)材(cai)需要(yao)能满(man)足其纯度、杂(za)质(zhi)含(han)量、组(zu)分(fen)均(jun)匀性、机械加工(gong)精(jing)度等要求。
以(yi)上(shang)就是(shi)对(dui)靶材(cai)的制备要(yao)求(qiu)及(ji)选(xuan)用(yong)原则(ze)的(de)全部(bu)介(jie)绍，靶材(cai)在(zai)制(zhi)备(bei)中(zhong)要求(qiu)越(yue)高(gao)，制(zhi)作出来的(de)靶材(cai)性(xing)能也(ye)就(jiu)越好(hao)，更(geng)能满(man)足产(chan)品的(de)需(xu)要(yao)。宝(bao)鸡市(shi)凯泽(ze)金属材(cai)料(liao)有(you)限(xian)公(gong)司生(sheng)产的有钛靶、镍靶(ba)、铬(ge)靶(ba)、锆(gao)靶(ba)、钛铝(lv)靶(ba)等各种靶材(cai)，如(ru)果您(nin)有(you)相关需要，欢迎致(zhi)电咨(zi)询。
相(xiang)关链接(jie)
