溅射(she)钛(tai)靶(ba)材主要应用于(yu)电子及(ji)信(xin)息(xi)产业(ye)，如(ru)集(ji)成电(dian)路(lu)、信(xin)息存储(chu)、液(ye)晶(jing)显(xian)示屏(ping)、激光存储器、电子控制(zhi)器件等；亦(yi)可应用于(yu)玻璃(li)镀膜领域；还可以应(ying)用(yong)于耐(nai)磨(mo)材料(liao)、高(gao)温(wen)耐蚀、高(gao)档装饰(shi)用(yong)品等(deng)行(xing)业。
1、信(xin)息(xi)存储(chu)产(chan)业
随(sui)着(zhe)IT产(chan)业(ye)的(de)不断(duan)发(fa)展(zhan)，世(shi)界(jie)对记(ji)录(lu)介质(zhi)的(de)需(xu)求(qiu)量(liang)越来(lai)越(yue)大(da)，记录介(jie)质(zhi)用靶材(cai)研(yan)究与生产(chan)成为一大热(re)点。在(zai)信息存储产(chan)业中，使(shi)用溅射(she)靶(ba)材制备(bei)的相(xiang)关薄(bao)膜(mo)产(chan)品有(you)硬(ying)盘、磁头(tou)、光(guang)盘等(deng)。制(zhi)造(zao)这(zhe)些(xie)数(shu)据存(cun)储(chu)产品，需(xu)要(yao)使用(yong)具有特(te)殊(shu)结(jie)晶性与特(te)殊(shu)成(cheng)分的高(gao)品(pin)质靶(ba)材，常用(yong)的有钴(gu)、铬、碳(tan)、镍、铁、贵金(jin)属、稀(xi)有(you)金(jin)属、介(jie)质(zhi)材(cai)料(liao)等。
2、集(ji)成电(dian)路产业
集成电(dian)路用钛(tai)靶(ba)材在(zai)全(quan)球(qiu)靶材(cai)市(shi)场占较(jiao)大(da)份(fen)额(e)，其溅射(she)产(chan)品(pin)主要(yao)包(bao)括(kuo)电(dian)极(ji)互连线膜(mo)、阻(zu)挡层薄(bao)膜、接(jie)触(chu)薄(bao)膜、光(guang)盘(pan)掩膜、电(dian)容(rong)器电极膜(mo)、电阻(zu)薄(bao)膜(mo)等。其中薄膜电(dian)阻(zu)器(qi)是(shi)薄(bao)膜(mo)混(hun)合(he)集成电路中(zhong)用量(liang)最(zui)多的(de)元件，而(er)电(dian)阻薄(bao)膜用靶(ba)材中Ni-Cr合金(jin)的用量(liang)很(hen)大。
3、平(ping)面(mian)显(xian)示(shi)器(qi)产(chan)业
平(ping)面(mian)显(xian)示器包括(kuo)：(1) 液晶(jing)显示(LCD) ； (2) 等(deng)离(li)子(zi)体(ti)显(xian)示器(PDP) ； (3) 场(chang)致(zhi)发(fa)光(guang)显示(shi)器(qi)(E-L) ； (4)场(chang)发(fa)射(she)显示器(FED) 。目(mu)前， 在平面(mian)显(xian)示(shi)器(qi)市场中(zhong)以液晶(jing)显(xian)示为主，广(guang)泛(fan)应用于(yu)笔(bi)记(ji)本电脑(nao)显(xian)示(shi)器(qi)、台(tai)式(shi)电(dian)脑(nao)监视器(qi)到(dao)高清晰(xi)电(dian)视(shi)。目前，平面显(xian)示(shi)器(qi)的(de)薄膜(mo)多采(cai)用溅(jian)射成形。溅射(she)用(yong)靶(ba)材(cai)主要(yao)有(you)In2O3、SnO2、MgO、W、Mo、Ni、Cu、Cr等。
4、溅(jian)射(she)靶材在(zai)其(qi)他(ta)领域(yu)中的(de)应用
1）大面积(ji)玻璃(li)镀膜(mo)
磁控溅射(she)是目(mu)前(qian)制备(bei)幕墙(qiang)玻(bo)璃的(de)最(zui)好的方法(fa)，但(dan)射频(pin)电源(yuan)，溅射(she)靶的材(cai)料(liao)和制作(zuo)价格(ge)都十(shi)分昂(ang)贵(gui)，磁控溅(jian)射的(de)成本(ben)是比(bi)较(jiao)高(gao)的(de)。
玻璃(li)镀(du)膜(mo)采(cai)用的(de)靶(ba)材(cai)：
A）纯(chun)金属。如金，银(yin)，钽(tan)，钛(tai)，铜(tong)，铬，镍，锡(xi)，硅。
B）金(jin)属合金。如钢(gang)锡(xi)、钴铬，镍(nie)铬，不锈(xiu)钢，特(te)殊
C）电(dian)导和(he)绝缘(yuan)氧(yang)化物(wu)。如(ru)ITO， SiO2。
镀膜过程(cheng)：将惰性(xing)气体注(zhu)入真空室，在电(dian)场(chang)中被(bei)电离后产生(sheng)带(dai)正电荷的离(li)子(zi)和(he)自由电(dian)子。正离(li)子(zi)被吸(xi)收至装(zhuang)在负(fu)电(dian)位(wei)，阴(yin)极顶面(mian)的(de)靶上。气(qi)体(ti)、离子将靶材表面(mian)上的(de)原子(zi)碰出来(lai)，使这些原子(zi)凝(ning)聚(ju)在玻(bo)璃基(ji)片(pian)上(shang)。采用(yong)磁场(chang)捕集自(zi)由电(dian)子(zi)可(ke)得到高的溅(jian)射(she)率(lv)，被捕(bu)集(ji)的自由(you)电子周(zhou)而(er)复始地产(chan)生高(gao)离(li)子(zi)密(mi)度，从(cong)而(er)得到(dao)较(jiao)高(gao)的(de)膜层(ceng)沉(chen)积(ji)速(su)率(lv)。磁(ci)控增强(qiang)阴极的溅(jian)射率较常规(gui)二极(ji)溅射高5至10倍(bei)，内(nei)装(zhuang)有水冷却回路(lu)保(bao)证(zheng)均匀地(di)降(jiang)低(di)靶(ba)材的(de)温(wen)度(du)。纯金属和(he)合(he)金在(zai)惰性气(qi)体的(de)气(qi)氛中(zhong)溅(jian)射(she)；纯(chun)金属靶可在(zai)反应性气(qi)体的气(qi)氛中(zhong)溅(jian)射(she)。
2）汽(qi)车(che)后视(shi)镜(jing)镀膜
汽(qi)车(che)后视镜主要(yao)用(yong)靶(ba)材(cai)：Cr、A 1、SnO， (反应(ying)性) 、TiO2， 通常(chang)的(de)后(hou)视(shi)镜(jing)是(shi)采用(yong)蒸(zheng)发镀铝(lv)工(gong)艺， 由于(yu)铝膜(mo)反(fan)射率(lv)较(jiao)高(gao)，约87%，吸(xi)收(shou)很(hen)小(xiao)，因(yin)此(ci)反(fan)射(she)光(guang)很耀(yao)眼(yan)。而(er)采(cai)用磁(ci)控溅(jian)射(she)法镀制(zhi)特(te)殊膜(mo)系(xi)，反射(she)率(lv)比铝膜稍低(di)且(qie)在可(ke)见(jian)光(guang)范(fan)围内(nei)对(dui)红色光(guang)有(you)一(yi)定(ding)的(de)吸(xi)收，给予镜子一种(zhong)诱(you)人的(de)“雾(wu)蓝色”，其反(fan)射(she)光(guang)显(xian)得(de)非常(chang)柔和(he)清(qing)晰(xi)。
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