真空(kong)镀膜钛(tai)靶材(cai)的特点(dian)

新型(xing)的(de)溅(jian)镀(du)设(she)备(bei)几(ji)乎都使(shi)用强力磁铁(tie)将(jiang)电(dian)子成(cheng)螺旋(xuan)状运(yun)动以(yi)加速(su)靶(ba)材周围(wei)的(de)氩气(qi)离子化，造(zao)成靶(ba)与(yu)氩(ya)气离(li)子(zi)间的撞(zhuang)击机率(lv)增加(jia)，提(ti)高(gao)溅(jian)镀速(su)率(lv)。一般金(jin)属(shu)镀(du)膜大都采用(yong)直(zhi)流溅(jian)镀(du)，而不导(dao)电的陶(tao)磁(ci)材料则(ze)使(shi)用(yong)RF交(jiao)流(liu)溅镀(du)，基本(ben)的原理(li)是(shi)在真空(kong)中(zhong)利用辉(hui)光放电（glow discharge）将(jiang)氩气（Ar）离子(zi)撞击靶材（target）表(biao)面，电浆中的(de)阳离(li)子会加(jia)速冲(chong)向(xiang)作(zuo)为被(bei)溅镀(du)材(cai)的负(fu)电极(ji)表(biao)面(mian)，这(zhe)个(ge)冲击(ji)将(jiang)使(shi)靶材(cai)的物(wu)质(zhi)飞出而沉(chen)积在(zai)基板上形成(cheng)薄(bao)膜。凯泽(ze)金(jin)属(shu)专业(ye)生产各类钛(tai)靶(ba)材，以(yi)下分享溅射(she)镀膜的一(yi)些(xie)特点。

（1）金(jin)属、合金(jin)或(huo)绝缘(yuan)物均(jun)可(ke)做成(cheng)薄(bao)膜材料(liao)。

（2）在适(shi)当(dang)的(de)设定条(tiao)件(jian)下可将(jiang)多元复杂的靶材(cai)制(zhi)作出(chu)同(tong)一(yi)组(zu)成(cheng)的(de)薄膜(mo)。

（3）利(li)用放电(dian)气氛(fen)中(zhong)加(jia)入(ru)氧或(huo)其(qi)它(ta)的(de)活(huo)性气(qi)体(ti)，可以(yi)制作靶材(cai)物质与气(qi)体分子的混(hun)合(he)物(wu)或化合物(wu)。

（4）靶(ba)材(cai)输入(ru)电(dian)流(liu)及(ji)溅射时(shi)间可(ke)以(yi)控(kong)制，容(rong)易(yi)得(de)到(dao)高精度(du)的膜(mo)厚。

（5）较(jiao)其(qi)它制程(cheng)利于(yu)生产大(da)面积的(de)均一薄(bao)膜。

（6）溅射(she)粒子(zi)几(ji)不(bu)受(shou)重(zhong)力影(ying)响，靶材(cai)与基(ji)板位置可自由(you)安排。

（7）基(ji)板(ban)与膜(mo)的附着(zhe)强度是一(yi)般蒸(zheng)镀膜(mo)的(de)10倍以上(shang)，且由于溅(jian)射(she)粒子(zi)带有高能量，在(zai)成(cheng)膜(mo)面(mian)会(hui)继续(xu)表(biao)面(mian)扩散而得(de)到(dao)硬且(qie)致(zhi)密的薄(bao)膜(mo)，同时(shi)此(ci)高(gao)能(neng)量(liang)使基板(ban)只要(yao)较(jiao)低(di)的温(wen)度(du)即可得(de)到(dao)结(jie)晶(jing)膜。

（8）薄膜(mo)形成初(chu)期(qi)成(cheng)核(he)密度高，可生产(chan)10nm以(yi)下的极(ji)薄(bao)连(lian)续(xu)膜。

（9）靶(ba)材(cai)的(de)寿命长(zhang)，可长(zhang)时(shi)间自(zi)动(dong)化连续(xu)生产。

（10）靶(ba)材可制(zhi)作成各(ge)种形(xing)状，配(pei)合(he)机(ji)台的(de)特殊设(she)计(ji)做更(geng)好的(de)控(kong)制及(ji)最有(you)效(xiao)率(lv)。

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