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        溅射(she)钛靶(ba)材的(de)主(zhu)要(yao)应(ying)用领域(yu)简(jian)述(shu)

        发(fa)布时间:2023-02-10 15:49:08 浏览次(ci)数 :

        溅射钛(tai)靶材(cai)是指(zhi)通过(guo)磁控(kong)溅射(she)、多弧(hu)离(li)子(zi)镀或其(qi)他(ta)类(lei)型(xing)的(de)镀膜设(she)备(bei)在(zai)适(shi)当工艺(yi)条件下溅射(she)沉积(ji)在(zai)基板(ban)上(shang)形(xing)成(cheng)各种功能薄(bao)膜(mo)的(de)溅射(she)源(yuan)。溅(jian)射靶(ba)材广泛应(ying)用于装饰(shi)、工(gong)模(mo)具、玻璃(li)、电子器件(jian)、半(ban)导体、磁(ci)记录、平面显(xian)示(shi)、太(tai)阳(yang)能电(dian)池等众(zhong)多(duo)领域,不同(tong)领(ling)域需要(yao)的靶材各不(bu)相(xiang)同(tong)。溅射(she)靶(ba)材(cai)根据成(cheng)分(fen)可以(yi)分为(wei)纯(chun)金(jin)属靶(ba)材(cai)、合金(jin)靶材、氧(yang)化(hua)物靶(ba)材、硅化物靶材(cai)等(deng)多(duo)个(ge)品(pin)种;根(gen)据(ju)生产(chan)方(fang)法(fa)可(ke)以(yi)分为粉(fen)末(mo)靶、熔(rong)炼(lian)靶和(he)喷涂(tu)靶(ba);按(an)照形(xing)状可(ke)以分为(wei)平面(mian)靶材和管(guan)状靶(ba)材(cai),平面(mian)靶(ba)材(cai)又(you)可(ke)以分为(wei)矩(ju)形靶和圆(yuan)弧靶。

        近(jin)年来(lai),随着(zhe)电(dian)镀和(he)化学镀(du)等(deng)传统表面(mian)改(gai)性技(ji)术(shu)的(de)局限性日益突出(chu),以物理(li)气(qi)相沉(chen)积(ji)(PVD)和(he)化学(xue)气相沉(chen)积(CVD)为主要工艺(yi)方法(fa)的真(zhen)空(kong)镀(du)膜(mo)技术(shu)取得了(le)突飞猛(meng)进(jin)的发展,其中PVD制备(bei)过程所(suo)需要(yao)的(de)溅(jian)射(she)靶(ba)材市(shi)场(chang)需(xu)求(qiu)量日(ri)趋旺盛。据(ju)统(tong)计(ji),全(quan)球(qiu)范围(wei)内(nei)靶(ba)材(cai)的(de)市场需求(qiu)量(liang)每年以(yi)20%的(de)速(su)度(du)增(zeng)长(zhang),中(zhong)国(guo)作(zuo)为全球制(zhi)造业大(da)国(guo),其靶材(cai)的(de)市(shi)场(chang)需(xu)求量更(geng)是每 年(nian)以超过(guo)30%的(de)速(su)度增长(zhang)。若不(bu)计(ji)贵(gui)金属(shu)靶材,保守(shou)估(gu)计目(mu)前(qian)每(mei)年各领(ling)域(yu)所需要的(de)靶材总(zong)量(liang)价(jia)值(zhi)约100亿(yi)元(yuan)人民币左右(you)。

        钛靶(ba)管(guan)

        1、装饰镀膜

        装饰镀(du)膜(mo)主要(yao)是(shi)指手机(ji)、手表、眼(yan)镜(jing)、卫生(sheng)洁(jie)具、五金零件(jian)等(deng)产(chan)品(pin)的表面镀膜(mo),不仅起到(dao)美(mei)化色(se)彩的(de)作用(yong),同时也具(ju)有耐(nai)磨(mo)、耐(nai)蚀等(deng)功能。人(ren)民生活水(shui)平(ping)的不断(duan)提(ti)高,要(yao)求越来(lai)越(yue)多的日(ri)常用品进行装饰(shi)性(xing)镀(du)膜(mo),因(yin)此(ci)装(zhuang)饰(shi)镀(du)膜用靶(ba)材的需(xu)求(qiu)量(liang)日益(yi)扩大。装饰(shi)镀(du)膜用靶材(cai)主要(yao)品(pin)种有(you):铬(ge)(Cr)靶、钛(tai)(Ti)靶(ba)、锆(Zr)、镍(Ni)、钨(wu)(W)、钛铝(TiA1)、不(bu)锈(xiu)钢(gang)靶(ba)等。

        2、工(gong)模具镀(du)膜(mo)

        主(zhu)要是用于工(gong)具、模具(ju)的表面强(qiang)化,能显(xian)著(zhu)提(ti)高(gao)工具、模具的使(shi)用寿(shou)命和被(bei)加(jia)工零件的(de)质(zhi)量。近(jin)年(nian)来(lai),在航空航天(tian)和(he)汽车(che)产(chan)业发展的带动下(xia),全(quan)球制(zhi)造业(ye)的(de)技(ji)术(shu)水平(ping)和生(sheng)产(chan)效(xiao)率(lv)有了长足(zu)进(jin)步,对(dui)高性能刀(dao)具、模具的需求(qiu)量(liang)日(ri)益增(zeng)加。目前(qian),全(quan)球(qiu)工(gong)模(mo)具镀膜市(shi)场(chang)主要在(zai)欧(ou)美和(he)日(ri)本。据统(tong)计,发(fa)达国(guo)家(jia)机(ji)加工用(yong)刀(dao)具的(de)镀(du)膜比(bi)例已(yi)超(chao)过90% 。我(wo)国(guo)刀(dao)具(ju)镀(du)膜比例也在(zai)不断提升,刀(dao)具镀膜用(yong)靶(ba)材(cai)的需(xu)求量日益(yi)扩大。工模(mo)具(ju)镀膜用靶材(cai)主(zhu)要品种(zhong)有(you):TiAl靶、铬(ge)铝(lv)(CrA1)靶、Cr靶(ba)、Ti靶等。

        3、玻璃镀膜

        靶材在(zai)玻璃(li)上的应用主要(yao)是(shi)制(zhi)作低(di)辐(fu)射(she)镀(du)膜(mo)玻(bo)璃(li),即(ji)利(li)用磁(ci)控(kong)溅射(she)原理在(zai)玻(bo)璃(li)上溅(jian)射(she)多层(ceng)薄膜(mo),以(yi)达(da)到(dao)节能、控(kong)光、装(zhuang)饰(shi)的(de)作(zuo)用。低(di)辐射镀(du)膜玻璃(li)又称节(jie)能玻(bo)璃,近年来(lai),随着节 能减(jian)排和(he)改(gai)善(shan)人们生活(huo)质量(liang)需(xu)求的增加(jia),传(chuan)统(tong)的建(jian)筑玻璃(li)正(zheng)逐(zhu)渐被节能(neng)玻璃所(suo)取代(dai)。正是在(zai)这种市场(chang)需求(qiu)的推(tui)动下,目前几(ji)乎所(suo)有的(de)大(da)型(xing)玻璃深加工企业(ye)都(dou)在(zai)快(kuai)速增(zeng)加(jia)镀(du)膜玻璃生(sheng) 产(chan)线(xian)。与此(ci)相(xiang)对应(ying),镀(du)膜(mo)用靶(ba)材(cai)的(de)需求(qiu)量(liang)快(kuai)速增(zeng)长,靶(ba)材主(zhu)要(yao)品(pin)种(zhong)有:银(ag)靶、Cr靶、Ti靶(ba)、镍铬(ge)(NiCr)靶、锌(xin)锡(xi)(ZnSn)靶、硅(gui)铝(lv)(Sia1)靶(ba)、氧化钛(Ti O )靶(ba)等。

        靶材在(zai)玻(bo)璃(li)上(shang)的另(ling)一(yi)个(ge)重要(yao)应(ying)用(yong)是制(zhi)备(bei)汽车后(hou)视镜(jing),主(zhu)要是铬(ge)靶(ba)、铝(lv)靶(ba)、氧(yang)化钛靶(ba)等。随(sui)着(zhe)汽车后视(shi)镜档(dang)次(ci)要(yao)求(qiu)的(de)不断(duan)提(ti)高(gao),很多企业(ye)纷纷从(cong)原(yuan)来的镀铝工艺(yi)转(zhuan)成真空溅射镀(du) 铬(ge)工(gong)艺。

        4、电子器件(jian)镀膜(mo)

        电(dian)子(zi)器(qi)件(jian)镀(du)膜(mo)主(zhu)要用于薄膜(mo)电阻和(he)薄(bao)膜电容。薄膜电(dian)阻可以提(ti)供(gong)10~1000M Q电(dian)阻,而且电(dian)阻(zu)温(wen)度(du)系(xi)数小(xiao)、稳定性好(hao),可以(yi)有(you)效(xiao)减(jian)小器(qi)件的(de)尺(chi)寸(cun)。 薄膜(mo)电(dian)阻用靶材有(you)NiCr靶、镍铬硅(NiCrSi)靶(ba)、铬硅(CrSi)靶(ba)、钽(tan)(Ta)靶、镍(nie)铬(ge)铝(lv)(NiCrA1)靶(ba)等。

        钛靶

        5、磁(ci)记(ji)录(lu)镀膜(mo)

        21世(shi)纪(ji)是经济信息化、信息数(shu)字(zi)化的高科(ke)技时代。信息(xi)超(chao)高密(mi)度储(chu)存和高(gao)速(su)传(chuan)输的要求(qiu),推(tui)动信(xin)息高技术(shu)的(de)进一步(bu)发展。先(xian)进的(de)电(dian)子计算(suan)机和获取、处(chu)理(li)、存(cun)储(chu)、传(chuan)递(di)各(ge)种(zhong)信息的(de)自(zi)动(dong)化设(she)备(bei)都需(xu)要储(chu)存(cun)器,信(xin)息(xi)存(cun)储(chu)包(bao)括磁信(xin)息(xi)存(cun)储、磁光(guang)信(xin)息存储和(he)全光(guang)信(xin)息(xi)存(cun)储等。磁存(cun)储(chu)器(qi)如(ru)磁盘(pan)、磁(ci)头、磁(ci)鼓、磁(ci)带(dai)等是(shi)利用磁性材料的(de)铁磁(ci)特性实(shi)现(xian)信(xin)息存储(chu)的。溅射薄膜记(ji)录(lu)用的(de)靶材(cai)包(bao)括(kuo)C r基(ji)、钴(CO)基、钴铁(CoFe)基、Ni基等合(he)金。

        6、平面显(xian)示镀(du)膜(mo)

        便携(xie)式(shi)个(ge)人(ren)计(ji)算(suan)机、电(dian)视(shi)、手(shou)机等(deng)对(dui)平板(ban)显(xian)示器(qi)件(jian)需求(qiu)急剧增长(zhang)的刺激(ji),极大(da)地(di)促进了(le)各(ge)类平板显示(shi)器件的发(fa)展(zhan)。平(ping)板显(xian)示器种类(lei)有:液晶显示器件(jian)(LCD)、等离子(zi)体显(xian)示(shi)器件 (PDP)、薄(bao)膜(mo)晶(jing)体(ti)管(guan)液(ye)晶(jing)平(ping)板(ban)显(xian)示器(TFT—LCD)等(deng)。所(suo)有这(zhe)些平板(ban)显(xian)示(shi)器(qi)件都(dou)要(yao)用到(dao)各(ge)种类(lei)型(xing)的(de)薄膜,没(mei)有薄(bao)膜技(ji)术(shu)就没有平(ping)板(ban)显(xian)示(shi)器件。平(ping)板(ban)显示器(qi)多由(you)金(jin)属(shu)电极、透明(ming)导电(dian)极(ji)、绝(jue)缘层(ceng)、发(fa)光(guang)层(ceng)组(zu)成(cheng),为(wei)了保(bao)证大面(mian)积(ji)膜(mo)层(ceng)的均(jun)匀(yun)性(xing),提高(gao)生产(chan)率和(he)降低成(cheng)本(ben),溅射(she)技(ji)术越来越(yue)多(duo)地(di)被用(yong)来(lai)制(zhi)备(bei)这些(xie)膜(mo)层。平(ping)面(mian)显示(shi)镀膜用靶(ba)材(cai)主要(yao)品种有:钛靶(ba)、铬靶、钼)靶(ba)、Al靶、铝合金靶,铜(tong)(CU)靶(ba)、铜(tong)合(he)金(jin)和(he)掺锡(xi)氧(yang)化(hua)铟(IT0)靶材等。

        7、半(ban)导体(ti)镀膜(mo)

        信(xin)息技术的飞速发展,要(yao)求集成(cheng)电(dian)路(lu)的集(ji)成度越(yue)来越(yue)高,电路中(zhong)单(dan)元(yuan)器件(jian)尺(chi)寸(cun)不(bu)断(duan)缩(suo)小,元(yuan)件尺寸由(you)毫米(mi)级到微米(mi)级,再(zai)到(dao)纳(na)米级。每(mei)个单元器(qi)件(jian)内部由衬(chen)底、绝缘(yuan)层、介(jie)质层、导体(ti)层及(ji)保(bao)护(hu)层(ceng)等组(zu)成,其中,介(jie)质(zhi)层(ceng)、导体层(ceng)甚(shen)至(zhi)保(bao)护层都要用到溅射镀膜工(gong)艺(yi),因此溅射靶(ba)材是(shi)制(zhi)备集(ji)成(cheng)电路的核心材(cai)料之(zhi)一(yi)。半导体(ti)镀(du)膜用(yong)靶材主要品种有(you)w、钨(wu)钛(tai)(wTi)、Ti、Ta、A1、Cu等(deng),要(yao)求(qiu)靶材(cai)纯度(du)很(hen)高,一般在4N或5N以上(shang),因(yin)此半(ban)导(dao)体(ti)镀(du)膜用(yong)靶材价格(ge)昂贵。

        8、太(tai)阳(yang)能(neng)电池(chi)镀(du)膜(mo)

        随着传(chuan)统石化(hua)燃(ran)料(liao)能源的(de)日(ri)益(yi)减(jian)少,全世(shi)界(jie)都把目(mu)光(guang)投向了可(ke)再生能(neng)源(yuan),太阳(yang)能(neng)以其(qi)独有(you)的(de)优势成为(wei)人们重(zhong)视(shi)的(de)焦点(dian),主要是把(ba)太阳(yang)光(guang)能转换(huan)为(wei)热(re)能和(he)电(dian)能。其(qi)中光一(yi)电(dian)转(zhuan)换(huan)是 通过光电(dian)效(xiao)应直(zhi)接把(ba)光能转换成电能的太(tai)阳能(neng)电池来完成(cheng),目(mu)前,太阳能电(dian)池(chi)已经(jing)发展到(dao)了(le)第三代。第一(yi)代是(shi)单(dan)晶(jing)硅(gui)太(tai)阳(yang)能(neng)电池(chi),第(di)二代(dai)是(shi)非(fei)晶硅(gui)和(he)多(duo)晶硅太阳能(neng)电池(chi),第(di)三代是(shi)薄膜(mo)太阳(yang)能(neng)电池(铜(tong)铟镓硒(xi)[C IGs]为(wei)代表),而(er)溅(jian)射镀(du)膜工艺是(shi)被(bei)优(you)先选用的(de)制备方(fang)法(fa)。全(quan)球(qiu)低(di)碳经济(ji)的(de)兴(xing)起(qi),为新能(neng)源(yuan)、新材(cai)料的(de)发展提供了广(guang)阔前(qian)景(jing),全球各大靶材供应商都将(jiang)太(tai)阳(yang)能电(dian)池镀膜用靶(ba)材作(zuo)为(wei)重要(yao)的(de)研(yan)发(fa)产品(pin),太阳(yang)能(neng)电池(chi)镀膜正以(yi)爆(bao)炸(zha)式的方式增长。以2005年太阳能(neng)电池装(zhuang)机(ji)量(liang)为基准(zhun),年递增率分(fen)别(bie)为23%、40%、67%预估。太阳能电池镀(du)膜用(yong)靶(ba)材主要(yao)品种有:氧化锌铝(lv)(AzO)靶(ba)、氧化锌(xin)(ZnO)靶(ba)、锌(xin)铝(lv)(ZnA1)靶、钼(Mo)靶(ba)、硫(liu)化镉(ge)(CdS)靶、铜铟(yin)镓(jia)硒(xi)(CulnGaSe)等。

        钛(tai)靶(ba)板

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