新(xin)型(xing)的溅镀(du)设(she)备几乎(hu)都(dou)使用(yong)强(qiang)力(li)磁铁将电子成螺旋状(zhuang)运(yun)动(dong)以加(jia)速靶材周(zhou)围(wei)的(de)氩气离子(zi)化(hua),造成(cheng)靶与(yu)氩气离(li)子(zi)间(jian)的撞(zhuang)击(ji)机(ji)率增(zeng)加(jia),提高(gao)溅镀(du)速率(lv)。一般(ban)金属(shu)镀膜(mo)大(da)都采(cai)用(yong)直(zhi)流溅(jian)镀,而(er)不(bu)导(dao)电的(de)陶(tao)磁材料(liao)则(ze)使(shi)用RF交流溅(jian)镀(du),基(ji)本的(de)原理是(shi)在真空(kong)中利(li)用(yong)辉光(guang)放(fang)电(glow discharge)将(jiang)氩(ya)气(Ar)离(li)子撞击(ji)靶材(target)表(biao)面,电浆中(zhong)的(de)阳离(li)子会(hui)加(jia)速冲(chong)向(xiang)作(zuo)为(wei)被(bei)溅(jian)镀(du)材(cai)的负电(dian)极(ji)表(biao)面,这个(ge)冲击将(jiang)使(shi)靶(ba)材(cai)的物(wu)质(zhi)飞出而(er)沉(chen)积(ji)在基板上形成(cheng)薄膜。宝(bao)鸡钛靶材(cai)专(zhuan)业制(zhi)造(zao)商---凯泽金(jin)属(shu),将(jiang)真(zhen)空(kong)镀膜(mo)领域(yu)用钛靶材的(de)特(te)点(dian),整理如(ru)下(xia):

一(yi)般(ban)来说(shuo),利(li)用(yong)溅射进(jin)行(xing)镀膜(mo)有(you)几个(ge)特点(dian):
(1)金(jin)属(shu)、合(he)金(jin)或绝缘物均可做成薄(bao)膜(mo)材(cai)料。
(2)在(zai)适当的(de)设(she)定条件下(xia)可将多元(yuan)复(fu)杂的(de)靶(ba)材制(zhi)作出(chu)同一(yi)组(zu)成的薄膜。
(3)利用(yong)放电气氛(fen)中加入(ru)氧或其(qi)它的(de)活(huo)性(xing)气体,可(ke)以制作(zuo)靶(ba)材(cai)物质与气体(ti)分子(zi)的(de)混(hun)合(he)物或化(hua)合物(wu)。
(4)靶(ba)材输入电流(liu)及溅(jian)射时间(jian)可以(yi)控制(zhi),容(rong)易得(de)到高精度的(de)膜厚(hou)。
(5)较其(qi)它(ta)制(zhi)程利(li)于(yu)生(sheng)产大面(mian)积的(de)均(jun)一薄(bao)膜(mo)。
(6)溅(jian)射粒(li)子(zi)几不(bu)受(shou)重(zhong)力影响(xiang),靶(ba)材(cai)与基板(ban)位(wei)置(zhi)可自(zi)由(you)安(an)排。
(7)基(ji)板与(yu)膜的(de)附(fu)着(zhe)强(qiang)度是一(yi)般蒸镀膜(mo)的(de)10倍(bei)以(yi)上,且(qie)由于(yu)溅(jian)射粒子带有(you)高(gao)能(neng)量,在成(cheng)膜面(mian)会继(ji)续(xu)表面扩散(san)而得到(dao)硬(ying)且致密的(de)薄(bao)膜,同(tong)时此(ci)高(gao)能(neng)量使(shi)基(ji)板只要(yao)较低(di)的温(wen)度(du)即得(de)到结晶膜(mo)。
(8)薄(bao)膜(mo)形(xing)成初(chu)期(qi)成核(he)密(mi)度高,可(ke)生(sheng)产10nm以(yi)下(xia)的(de)极(ji)薄连续膜(mo)。
(9)靶(ba)材的寿命(ming)长(zhang),可长时间自动化连续生产。
(10)钛(tai)靶(ba)材可制作成(cheng)各种(zhong)形状,配合(he)机台(tai)的特殊(shu)设计(ji)做(zuo)更好(hao)的控(kong)制及(ji)最有效(xiao)率。
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