溅射钛靶材在(zai)信(xin)息存(cun)储(chu)与(yu)集(ji)成(cheng)电(dian)路领(ling)域(yu)的(de)应(ying)用现(xian)状(zhuang)

溅射(she)钛(tai)靶材(cai)主要(yao)应(ying)用于电子及(ji)信息(xi)产业，如集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)、信(xin)息(xi)存(cun)储、液(ye)晶显(xian)示(shi)屏(ping)、激(ji)光存(cun)储器、电子控(kong)制(zhi)器(qi)件等(deng)。亦可(ke)应用(yong)于玻璃镀膜领域(yu)，还(hai)可(ke)以(yi)应用(yong)于耐(nai)磨材料(liao)、高温耐(nai)蚀、高(gao)档装(zhuang)饰用(yong)品(pin)等行业。

信息(xi)存(cun)储产(chan)业：随(sui)着IT产业(ye)的(de)不(bu)断(duan)发(fa)展，世(shi)界(jie)对记录(lu)介(jie)质(zhi)的(de)需求量越来越大，记录介(jie)质用靶(ba)材(cai)研(yan)究与(yu)生(sheng)产(chan)成(cheng)为(wei)一(yi)大(da)热点(dian)，在(zai)信(xin)息(xi)存储产(chan)业中，使(shi)用(yong)溅射(she)靶材制备(bei)的相关(guan)薄(bao)膜(mo)产品(pin)有(you)硬盘(pan)、磁头(tou)、光(guang)盘等，制(zhi)造(zao)这(zhe)些(xie)数(shu)据存储(chu)产(chan)品(pin)，需要(yao)使用具(ju)有特殊(shu)结晶(jing)性与(yu)特殊(shu)成分的(de)高品(pin)质(zhi)靶材。常用的(de)有钴、铬(ge)、碳(tan)、镍(nie)、铁、贵(gui)金(jin)属、稀(xi) 有金属、介(jie)质(zhi)材料等。

集(ji)成电(dian)路产业：集成电(dian)路(lu)用靶材在全球靶材市(shi)场占较大份额(e)，其(qi)溅(jian)射(she)产品(pin)主(zhu)要(yao)包括电极互(hu)连(lian)线膜(mo)、阻挡层(ceng)薄(bao)膜、接(jie)触薄膜、光盘掩膜(mo)、电容器电(dian)极膜、电阻薄膜(mo)等(deng)，其中薄(bao)膜电阻(zu)器是薄膜(mo)混合(he)集成电(dian)路中用量最多(duo)的元件，而电(dian)阻(zu)薄(bao)膜(mo)用靶材中(zhong)Ni-Cr合金的用量(liang)很大(da)。

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