现(xian)如(ru)今(jin)生活(huo)离(li)不(bu)开(kai)电(dian)子(zi)产(chan)品，我们(men)常(chang)用的(de)智(zhi)能(neng)手(shou)机，平(ping)板(ban)电脑(nao)，用(yong)手指(zhi)轻轻划(hua)就(jiu)能出(chu)现(xian)各种(zhong)不同的(de)界面，这(zhe)就(jiu)是(shi)电(dian)子设(she)备(bei)屏幕上(shang)种透明(ming)导电(dian)薄(bao)膜的(de)功(gong)劳(lao)，而(er)溅射靶材就用于(yu)生(sheng)产(chan)这种透明导(dao)电薄膜(mo)中，那(na)么(me)什么是(shi)溅射靶材呢(ne)？溅射(she)靶(ba)材是(shi)什(shen)么材(cai)质？下(xia)面就(jiu)跟(gen)着凯(kai)泽(ze)金属(shu)一(yi)起(qi)来(lai)了解下(xia)吧(ba)。
一(yi)、什(shen)么(me)是溅射(she)靶(ba)材(cai)？
溅射靶材(cai)是真(zhen)空(kong)磁控(kong)溅(jian)射（PVD）镀(du)膜所(suo)需(xu)的关(guan)键耗(hao)材。
溅(jian)射靶(ba)材的(de)要求较传统(tong)材料(liao)行(xing)业(ye)高，般(ban)要求(qiu)如：尺寸(cun)、平整度(du)、纯度(du)、各项(xiang)杂质(zhi)含(han)量(liang)、密(mi)度(du)、N/O/C/S、晶(jing)粒(li)尺(chi)寸与缺陷(xian)控(kong)制(zhi)；较高要求(qiu)或(huo)殊要(yao)求(qiu)包(bao)含(han)：表面粗糙(cao)度(du)、电阻(zu)值(zhi)、晶(jing)粒(li)尺(chi)寸(cun)均(jun)匀(yun)性(xing)、成(cheng)份与组(zu)织均匀(yun)性(xing)、异(yi)物(wu)（氧(yang)化物(wu)）含(han)量(liang)与尺(chi)寸、导(dao)磁率(lv)、超高(gao)密度与超细晶(jing)粒(li)等等。磁(ci)控(kong)溅(jian)射镀膜(mo)是种新型的物理(li)气相(xiang)镀(du)膜(mo)方(fang)式,就是(shi)用电(dian)子(zi)枪(qiang)系统(tong)把电子发(fa)射(she)并聚(ju)焦在被镀的材料上(shang)，使其(qi)被(bei)溅射出来(lai)的原(yuan)子(zi)遵循动(dong)量(liang)转换(huan)原理(li)以较高(gao)的(de)动(dong)能(neng)脱(tuo)离材(cai)料(liao)飞(fei)向(xiang)基(ji)片(pian)淀积成(cheng)膜(mo)。这(zhe)种(zhong)被(bei)镀的(de)材料就(jiu)叫(jiao)溅射靶(ba)材(cai)。
二、溅(jian)射(she)靶(ba)材材质分类
溅(jian)射靶(ba)材(cai)材质(zhi)分(fen)类(lei)有(you)三(san)种分别是金(jin)属(shu)靶材、陶瓷靶(ba)材、合(he)金靶(ba)材(cai)。
1、金(jin)属靶材(cai)
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶(ba)、Cr、镁(mei)靶、Mg、铌靶、Nb、锡(xi)靶(ba)、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁(tie)靶、Fe、锆铝(lv)靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆(gao)靶(ba)、Zr、铝(lv)硅(gui)靶(ba)、AlSi、硅靶、Si、铜靶(ba)Cu、钽靶T、a、锗(zhe)靶、Ge、银靶(ba)、Ag、钴靶(ba)、Co、金(jin)靶、Au、钆(ga)靶、Gd、镧靶、La、钇靶(ba)、Y、铈靶、Ce、钨(wu)靶、w、不(bu)锈(xiu)钢靶、镍(nie)铬(ge)靶(ba)、NiCr、铪靶(ba)、Hf、钼靶(ba)、Mo、铁(tie)镍(nie)靶(ba)、FeNi、钨(wu)靶、W等(deng)。
2、陶瓷(ci)靶材
ITO靶、氧化(hua)镁(mei)靶、氧化(hua)铁靶、氮化(hua)硅(gui)靶、碳(tan)化(hua)硅靶(ba)、氮化(hua)钛靶(ba)、氧(yang)化(hua)铬(ge)靶(ba)、氧化(hua)锌靶、硫化锌(xin)靶、二氧化硅靶(ba)、氧化硅(gui)靶(ba)、氧化(hua)铈靶(ba)、二氧化(hua)锆靶(ba)、五(wu)氧化二(er)铌(ni)靶(ba)、二氧(yang)化钛(tai)靶、二氧化锆(gao)靶，、二氧(yang)化铪靶，二(er)硼(peng)化(hua)钛(tai)靶，二硼(peng)化锆(gao)靶(ba)，三氧(yang)化(hua)钨靶，三氧(yang)化二(er)铝靶五(wu)氧化(hua)二(er)钽，五氧化二(er)铌(ni)靶、氟化镁(mei)靶(ba)、氟化(hua)钇(yi)靶、硒化锌(xin)靶、氮化铝(lv)靶(ba)，氮化硅(gui)靶，氮化(hua)硼靶(ba)，氮化钛(tai)靶，碳(tan)化硅靶，铌(ni)酸(suan)锂(li)靶、钛酸(suan)镨靶、钛酸(suan)钡靶、钛酸(suan)镧靶、氧(yang)化(hua)镍(nie)靶、溅(jian)射(she)靶(ba)材等(deng)。
3、合(he)金靶(ba)材(cai)
铁(tie)钴靶(ba)FeCo、铝硅靶(ba)AlSi、钛硅(gui)靶TiSi、铬(ge)硅靶CrSi、锌(xin)铝(lv)靶ZnAl、钛锌靶材TiZn、钛铝靶TiAl、钛(tai)锆靶TiZr、钛硅靶TiSi、钛(tai)镍(nie)靶TiNi、镍铬(ge)靶NiCr、镍铝靶(ba)NiAl、镍(nie)钒靶(ba)NiV、镍(nie)铁(tie)靶NiFe等(deng)。
三、溅(jian)射靶(ba)材应(ying)用(yong)领域
溅(jian)射(she)靶(ba)材主(zhu)要应(ying)用于电(dian)子(zi)及信(xin)息(xi)产业(ye)，如(ru)集成电(dian)路(lu)、信息存储、液晶(jing)显示屏、激光(guang)存(cun)储器(qi)、电(dian)子(zi)控(kong)制(zhi)器(qi)件(jian)等(deng)；亦可应(ying)用(yong)于(yu)玻(bo)璃(li)镀(du)膜(mo)域(yu)；还(hai)可以(yi)应用于(yu)耐磨材料(liao)、高(gao)温耐(nai)蚀(shi)、装(zhuang)饰(shi)用品(pin)等行业(ye)。如今(jin)市(shi)场电子(zi)产(chan)品(pin)需(xu)求量(liang)大(da)，溅射靶材的(de)市场(chang)规(gui)模(mo)也(ye)日(ri)益扩(kuo)大(da)。宝(bao)鸡市凯(kai)泽(ze)金属(shu)材料有限公(gong)司(si)是一家研(yan)发(fa)生(sheng)产(chan)钛靶、铬(ge)靶、锆(gao)靶(ba)、镍靶(ba)、钛铝靶、钛(tai)丝(si)、钛加(jia)工(gong)件(jian)、钛锻(duan)件(jian)等金(jin)属材料(liao)为(wei)主的高新技术企(qi)业(ye)，十余年专(zhuan)注于溅射(she)靶材、镀(du)膜靶材(cai)、平(ping)面(mian)多(duo)弧(hu)靶材研发(fa)、生(sheng)产(chan)，靶材(cai)组(zu)织(zhi)结构均(jun)匀(yun)、溅射成(cheng)膜(mo)性(xing)能优(you)异(yi)，如果您(nin)对靶(ba)材有疑(yi)问(wen)或需要(yao)，欢迎联(lian)系凯(kai)泽(ze)金(jin)属(shu)。
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