新(xin)能(neng)源用(yong)钛(tai)靶材是(shi)用(yong)于薄膜(mo)沉积的(de)高纯(chun)度(du)钛(tai)或钛合(he)金(jin)材料(liao)（纯(chun)度(du)≥99.99%‌），遵(zun)循半(ban)导(dao)体(ti)级(ji)制(zhi)造标(biao)准(zhun)‌，主要应(ying)用于(yu)太(tai)阳能(neng)电(dian)池透(tou)明导电层‌、储能(neng)设(she)备(bei)电(dian)极‌及显(xian)示技术(shu)光电(dian)转换(huan)膜(mo)‌等(deng)领(ling)域。... 【详(xiang)情(qing)】

光学级(ji)钛(tai)靶材是(shi)高端(duan)镀膜(mo)的核心(xin)材(cai)料，其性能直(zhi)接(jie)影(ying)响光学系(xi)统(tong)的能(neng)量(liang)损(sun)耗（每(mei)0.1%杂(za)质(zhi)增(zeng)加(jia)约(yue)2%的散射损(sun)失）。在(zai)半导(dao)体(ti)和(he)显(xian)示领域(yu)靶材趋向(xiang)大尺(chi)寸(cun)化（如(ru)G10.5代(dai)线需(xu)4m长靶(ba)）的背景下(xia)，光学靶材更聚焦(jiao)于微(wei)观(guan)结(jie)构控(kong)制(zhi)，需(xu)结(jie)合XRD（X射线衍射(she)）进(jin)行(xing)择(ze)优取向(xiang)分(fen)析，确(que)保(bao)（002）晶面(mian)占比＞70%，以实(shi)现最(zui)优膜层生(sheng)长(zhang)... 【详情(qing)】

钛管(guan)靶凭(ping)借(jie)其高(gao)材料利用率和(he)均匀(yun)镀(du)膜(mo)特(te)性(xing)，在显示面板（如(ru)G10.5代(dai)线需Φ450×2500mm靶(ba)管）和光伏领域占据主导(dao)地(di)位(wei)。相(xiang)比钛(tai)板靶，其采(cai)购(gou)成(cheng)本(ben)高(gao)约(yue)30%，但综合(he)镀(du)膜效(xiao)率提(ti)升50%以上。特殊(shu)应用(yong)（如EUV镀膜(mo)）需(xu)选(xuan)择单(dan)晶钛(tai)管(guan)靶（晶(jing)向偏差(cha)<1°），并配(pei)合(he)... 【详情】

钛(tai)靶材(cai)因其优异的综合(he)性(xing)能（性(xing)价(jia)比、成(cheng)膜质量(liang)、工艺适(shi)应(ying)性(xing)），占据真空(kong)镀(du)膜靶(ba)材(cai)市场约35%的(de)份(fen)额（2023年(nian)数据(ju)）。相(xiang)较(jiao)于钽(tan)、铌(ni)等(deng)稀(xi)有(you)金属靶(ba)材，钛靶(ba)的溅射速率快(kuai)20-50%，且(qie)成本仅为(wei)1/3-1/5。在精(jing)密光学(xue)镀膜中，需选用EBM工(gong)艺制备的(de)（002）择(ze)优取(qu)向(xiang)靶材，配合(he)离(li)子束辅助(zhu)沉(chen)积(ji)（IBAD），可将(jiang)膜(mo)层表面粗(cu)糙度控制在0.5 nm以(yi)下，满(man)足(zu)激光陀螺仪(yi)等(deng)超(chao)精密器(qi)件的(de)需求(qiu)。... 【详情(qing)】

钛靶管(guan)凭借(jie)高材(cai)料(liao)利用(yong)率与(yu)镀膜均(jun)匀(yun)性，在显(xian)示(shi)面(mian)板(ban)（如(ru)8K OLED）和(he)光伏领域占据主导地(di)位。相(xiang)较于(yu)镍靶(ba)管，其成本高3-4倍(bei)，但耐高(gao)温(wen)性优异(yi)（Ti熔点比Ni高213℃），适用于硬(ying)质涂层；对(dui)比锆(gao)靶(ba)管(guan)，钛(tai)靶(ba)管的(de)溅射速率快(kuai)20%，且成本(ben)仅为1/3。在采(cai)购(gou)时需重点关注(zhu) 晶(jing)粒(li)取向控(kong)制(zhi) 与 杂(za)质(zhi)元(yuan)素溯源... 【详(xiang)情(qing)】

圆(yuan)柱(zhu)钛(tai)靶材(cai)凭(ping)借(jie)其(qi)高致(zhi)密(mi)性与(yu)工艺(yi)适应(ying)性(xing)，在(zai)半(ban)导(dao)体(ti)（如5 nm节点TiN阻(zu)挡层(ceng)）和超精(jing)密(mi)光学(xue)领(ling)域不(bu)可替代。相较于钛管(guan)靶(ba)，其(qi)材料利(li)用(yong)率(lv)低(di)约20%，但更(geng)适合(he)小(xiao)尺寸高(gao)精(jing)度镀(du)膜(mo)（如(ru)Φ200 mm晶(jing)圆）；对比(bi)镍(nie)靶(ba)块，钛靶(ba)的耐(nai)高(gao)温(wen)性（熔(rong)点(dian)高213℃）和(he)膜层硬度(du)（TiN硬度达2000 HV）优(you)势显著(zhu)。在(zai)高(gao)端(duan)应(ying)用(yong)中(zhong)，需选(xuan)择(ze)HIP工(gong)艺(yi)制备的纳(na)米晶靶材... 【详情(qing)】

装饰(shi)用(yong)高(gao)纯钛(tai)靶凭借其优(you)异(yi)的成(cheng)膜(mo)质量(liang)和(he)环保特(te)性(xing)，成(cheng)为高(gao)端表面处(chu)理(li)的(de)首选(xuan)。选(xuan)购(gou)时需(xu)严格(ge)把控(kong)纯(chun)度(du)与供(gong)应(ying)商(shang)技术实力(li)，并注意工(gong)艺参(can)数适(shi)配性。与镍、锆等(deng)靶(ba)材(cai)相(xiang)比，钛靶在(zai)装饰(shi)领(ling)域(yu)的色(se)彩表现和耐久(jiu)性(xing)更(geng)具优势，但成(cheng)本较(jiao)高，需(xu)根据(ju)具体需求(qiu)权(quan)衡(heng)选(xuan)择... 【详情(qing)】

平面显示(shi)用(yong)钛(tai)靶是(shi)高(gao)端(duan)显示面板制造(zao)的(de)核(he)心(xin)材(cai)料(liao)，其(qi)超(chao)纯、高(gao)密(mi)度和微观(guan)均匀性要(yao)求远(yuan)高(gao)于装(zhuang)饰用(yong)钛靶(ba)。选购(gou)时(shi)需重点关(guan)注杂(za)质(zhi)控(kong)制(zhi)、晶粒细化(hua)工(gong)艺(yi)及供(gong)应商的行业(ye)经验。相较于(yu)钛(tai)管靶(ba)和(he)靶块(kuai)，钛(tai)板靶在(zai)大(da)面(mian)积(ji)镀(du)膜中(zhong)更(geng)具(ju)优(you)势(shi)但成(cheng)本(ben)较高(gao)，需根据设备类型和工艺(yi)需求(qiu)灵活选择。使(shi)用中需严(yan)格遵循低(di)氧操作(zuo)规(gui)范... 【详情(qing)】

高(gao)纯钛靶以其超(chao)低(di)杂(za)质含量(liang)和(he)优异(yi)成(cheng)膜(mo)性(xing)能(neng)，成(cheng)为(wei)高(gao)端制造领域(yu)的(de)核(he)心材料(liao)。与(yu)钛合金靶相(xiang)比(bi)，其纯度(du)更高(gao)但(dan)硬(ying)度(du)较(jiao)低(di)；与(yu)纯(chun)锆(gao)靶相(xiang)比(bi)，成(cheng)本(ben)更(geng)低(di)但(dan)耐高温性稍逊；与纯(chun)镍(nie)靶(ba)相(xiang)比(bi)，耐腐蚀性更优但导电性不足(zu)。选(xuan)购时(shi)需(xu)严格把控纯(chun)度(du)与(yu)微(wei)观结(jie)构(gou)，并(bing)结(jie)合(he)应用场(chang)景优(you)化(hua)溅(jian)射工艺，以最(zui)大化靶(ba)材(cai)利(li)用(yong)率(lv)与薄膜(mo)性能... 【详情(qing)】

镀膜(mo)用(yong)钛管(guan)靶凭(ping)借(jie)其高利用(yong)率、优(you)异(yi)膜厚均匀(yun)性和(he)旋转溅射(she)适应(ying)性(xing)，成为(wei)大面(mian)积连(lian)续镀膜(mo)的核心(xin)材(cai)料(liao)。相(xiang)较(jiao)于钛(tai)板靶和靶(ba)块(kuai)，钛管(guan)靶在(zai)量产效(xiao)率和成(cheng)本控(kong)制(zhi)上(shang)更具(ju)优势，但(dan)对(dui)加(jia)工(gong)精度(du)（如(ru)焊(han)接密(mi)封性(xing)、几(ji)何公差(cha)）要(yao)求(qiu)严苛(ke)。选购(gou)时需重点把控纯度、微(wei)观结构(gou)及(ji)供(gong)应(ying)商(shang)的(de)工(gong)艺(yi)能(neng)力(li)，使用(yong)中需优化(hua)溅(jian)射(she)参数与(yu)维护流程，以(yi)延(yan)长(zhang)靶(ba)材(cai)寿命并保(bao)障镀(du)膜质量(liang)... 【详情】

工(gong)业涂层用钛(tai)圆(yuan)柱靶凭借(jie)其高纯(chun)度、优(you)异(yi)热管(guan)理能力和适(shi)配多种复合(he)涂(tu)层的(de)灵(ling)活(huo)性(xing)，成(cheng)为(wei)机(ji)械强化(hua)领(ling)域的(de)核(he)心材(cai)料。相较(jiao)于纯铬靶(ba)，其(qi)耐磨性(xing)更优(you)；相(xiang)较(jiao)于(yu)碳(tan)化钨靶，成(cheng)本显著降(jiang)低且工艺(yi)兼容(rong)性更(geng)广(guang)。选(xuan)购(gou)时需根(gen)据具(ju)体(ti)涂层类(lei)型(xing)（如TiN、TiAlN）选择靶(ba)材纯(chun)度与复(fu)合(he)结(jie)构(gou)，并严格验(yan)证微(wei)观(guan)均(jun)匀性。使(shi)用中需(xu)优(you)化(hua)溅射气(qi)体比例(li)与(yu)基(ji)片温(wen)度... 【详情(qing)】

TA2高纯钛靶(ba)通过提(ti)纯(chun)工艺在保(bao)留工业(ye)纯钛成(cheng)本(ben)优(you)势(shi)的(de)同(tong)时，提(ti)升(sheng)了(le)纯度(du)与(yu)溅(jian)射性(xing)能(neng)，成为(wei)中端工(gong)业(ye)涂(tu)层(ceng)的理(li)想选择。其(qi)性价比(bi)显著高于(yu)4N5级(ji)高(gao)纯(chun)钛靶(ba)，但薄膜(mo)性(xing)能(neng)（如(ru)电阻率、耐(nai)高温性）略逊(xun)于(yu)后(hou)者。选(xuan)购时(shi)需重(zhong)点把(ba)控Fe、O杂(za)质(zhi)含量(liang)及晶粒(li)均(jun)匀性(xing)，应(ying)用中需优化(hua)溅(jian)射(she)气体(ti)比例(li)与(yu)基(ji)片(pian)温(wen)度(du)。对于(yu)要(yao)求(qiu)严苛的半导体(ti)或光学镀(du)膜，仍(reng)需(xu)选用4N5级以上(shang)靶材(cai)；而(er)在工(gong)具(ju)强化(hua)、通(tong)用防腐(fu)领域... 【详情】

TA1高纯钛(tai)靶(ba)管通过(guo)提(ti)纯工(gong)艺(yi)在(zai)保留工(gong)业纯(chun)钛成本(ben)优势的(de)同(tong)时，显著提升(sheng)了杂(za)质控制水平与(yu)溅(jian)射(she)效(xiao)率，成(cheng)为中(zhong)端(duan)镀膜市(shi)场(chang)的(de)理(li)想(xiang)选(xuan)择。其(qi)性(xing)价(jia)比优(you)于(yu)4N5级靶(ba)管，且比TA2靶(ba)管(guan)更(geng)适合要求(qiu)较高(gao)的(de)耐(nai)磨(mo)与(yu)光(guang)学应(ying)用。选(xuan)购(gou)时需(xu)严格把控(kong)纯(chun)度(du)、几(ji)何(he)精(jing)度及(ji)供(gong)应(ying)商的工(gong)艺(yi)成(cheng)熟度，使(shi)用中(zhong)需优(you)化溅(jian)射(she)参数并定(ding)期维(wei)护... 【详(xiang)情(qing)】

钛靶板（平(ping)面(mian)靶）凭(ping)借(jie)其大(da)面积(ji)成膜能(neng)力与(yu)高(gao)纯度特性(xing)，成(cheng)为(wei)半导体、光学及(ji)工业(ye)涂层领域的核(he)心(xin)材(cai)料。相(xiang)较(jiao)于钛(tai)管靶，其(qi)边(bian)缘(yuan)损耗较(jiao)高但兼容性(xing)更(geng)广；与钛(tai)合(he)金靶相比，纯度更高但(dan)需依赖复(fu)合(he)背(bei)板提(ti)升(sheng)散热(re)效率(lv)。选(xuan)购时(shi)需严格(ge)把(ba)控(kong)纯(chun)度、微(wei)观(guan)结构(gou)及供(gong)应(ying)商(shang)工艺能力(li)，使用中需优化(hua)溅射参(can)数(shu)与(yu)维(wei)护(hu)流(liu)程(cheng)，以(yi)平衡(heng)镀膜质量与成(cheng)本效益... 【详情】

TA1钛圆(yuan)柱靶(ba)通过(guo)提(ti)纯(chun)工(gong)艺在保留工业纯钛成(cheng)本(ben)优(you)势的(de)同(tong)时，显(xian)著(zhu)提升了纯度(du)与(yu)溅(jian)射性(xing)能，成为(wei)中(zhong)端(duan)工业(ye)涂层(ceng)的(de)理想(xiang)选择。其性(xing)价(jia)比优于4N5级(ji)高(gao)纯(chun)钛(tai)靶(ba)，且比TA2钛(tai)靶(ba)更(geng)适合(he)要(yao)求(qiu)较高的(de)耐磨与(yu)防腐(fu)应(ying)用(yong)。选购时(shi)需(xu)严格把控(kong)Fe、O杂质(zhi)含量(liang)及晶(jing)粒(li)均(jun)匀性(xing)，应用(yong)中需优(you)化溅(jian)射(she)气(qi)体比例与基(ji)片(pian)温度(du)。对(dui)于(yu)高(gao)精(jing)密半(ban)导(dao)体(ti)或光学(xue)镀膜(mo)... 【详(xiang)情(qing)】

TA1钛(tai)靶(ba)管凭借其(qi)低(di)成(cheng)本(ben)、易加工和(he)良(liang)好(hao)的耐(nai)腐蚀性(xing)，成为工业防腐(fu)与装(zhuang)饰镀层(ceng)的(de)经(jing)济(ji)型(xing)选(xuan)择(ze)。相较于(yu)高(gao)纯(chun)钛(tai)靶(ba)管，其(qi)薄(bao)膜均(jun)匀(yun)性(xing)和耐(nai)温(wen)性(xing)稍逊(xun)，但(dan)成(cheng)本(ben)优(you)势(shi)显(xian)著；与(yu)TA2钛(tai)靶(ba)管相比，杂质(zhi)控(kong)制更优(you)，适合对(dui)镀(du)层质量(liang)要求(qiu)稍(shao)高的(de)场景。选购时需(xu)重点(dian)关注(zhu)Fe、O杂(za)质含量(liang)及(ji)几(ji)何精度，应(ying)用中(zhong)需控制(zhi)溅(jian)射参(can)数(shu)以(yi)避免膜层缺(que)陷(xian)... 【详(xiang)情(qing)】

TA1钛多弧靶凭(ping)借(jie)其高(gao)利(li)用(yong)率、低成本(ben)及(ji)适配(pei)多(duo)弧(hu)工(gong)艺的特(te)性，成为工(gong)业(ye)工具涂(tu)层(ceng)与(yu)防腐(fu)镀(du)层(ceng)的经济型选(xuan)择(ze)。相较于磁控(kong)溅(jian)射靶(ba)，其薄膜更致(zhi)密但(dan)需(xu)后(hou)处理(li)液滴(di)；相(xiang)较于(yu)高(gao)纯钛(tai)靶，虽(sui)杂(za)质较(jiao)多(duo)但(dan)成(cheng)本(ben)优势(shi)显著(zhu)。选购时(shi)需(xu)重(zhong)点(dian)关注杂(za)质含(han)量(liang)与(yu)晶粒(li)均匀(yun)性，使(shi)用中需(xu)优(you)化电弧参(can)数(shu)与(yu)基片(pian)偏压(ya)。对于(yu)高(gao)端(duan)精(jing)密(mi)涂(tu)层... 【详情(qing)】

TA1钛(tai)平(ping)面(mian)靶凭(ping)借其(qi)低成本(ben)、易加工及适中(zhong)的性能(neng)，成(cheng)为(wei)工业防腐与装(zhuang)饰镀层(ceng)的(de)经济型(xing)选择。其纯度虽不(bu)及(ji)高(gao)纯钛(tai)靶(ba)，但(dan)通过工(gong)艺(yi)优化（如磁场(chang)设计、溅(jian)射参数(shu)调(diao)整）可满(man)足一(yi)般(ban)工业(ye)需(xu)求。选购时需重点(dian)关注(zhu)杂(za)质(zhi)含量与(yu)几(ji)何(he)精(jing)度(du)，应用中(zhong)需控(kong)制氧(yang)污染(ran)并(bing)定期(qi)维(wei)护(hu)。对于精密(mi)半导体或光(guang)学镀膜(mo)，建议(yi)选(xuan)用高纯钛靶；而在(zai)防(fang)腐(fu)、装饰... 【详情(qing)】

异形钛(tai)靶(ba)材(cai)通(tong)过定制(zhi)化(hua)设(she)计(ji)解决(jue)了(le)复杂结(jie)构镀膜(mo)的(de)行业痛(tong)点，尽管初期(qi)成(cheng)本(ben)与周(zhou)期(qi)较(jiao)高(gao)，但(dan)其(qi)在材料(liao)利(li)用(yong)率(lv)、镀(du)膜(mo)精度上的(de)优(you)势显著。选购时(shi)需紧密协(xie)同(tong)设计与工(gong)艺团(tuan)队，优先(xian)选择具备(bei)增材制造与(yu)精密加(jia)工(gong)能(neng)力的(de)供(gong)应商(shang)，并(bing)通(tong)过(guo)小批(pi)量试制验(yan)证可(ke)行(xing)性。在半(ban)导(dao)体3D集成(cheng)、航(hang)空(kong)航天高温涂层等前沿领(ling)域... 【详情(qing)】

高纯(chun)钛(tai)靶指(zhi)纯(chun)度(du)≥ 99.95%（3N5级(ji)） 的钛(tai)溅(jian)射(she)靶材，杂质总量≤ 500 ppm，关键(jian)元(yuan)素(su)（Fe、O、C等(deng)）需精确(que)控(kong)制(zhi)。根(gen)据(ju)应用需求，纯度(du)可提(ti)升至(zhi) 99.999%（5N级(ji)），主要用于对(dui)薄膜性(xing)能要(yao)求严苛的(de)半导(dao)体(ti)、光学及新(xin)能源领(ling)域... 【详情】

新能源用钛靶(ba)材是高性能(neng)薄膜(mo)制备(bei)的核(he)心(xin)材(cai)料，需根(gen)据具体(ti)应(ying)用(yong)场景（如(ru)耐(nai)腐(fu)蚀、导电(dian)性(xing)、轻量化(hua)）选择(ze)材质与(yu)规格(ge)。采(cai)购(gou)时(shi)需综(zong)合考(kao)量纯度、供应商(shang)资质(zhi)及(ji)成本效益，并(bing)在使用(yong)中(zhong)严格(ge)控制工艺参数(shu)与(yu)维护条件(jian)，以确保薄(bao)膜性能(neng)与设备寿命(ming)
... 【详(xiang)情】

固(gu)态(tai)电池(chi)用钛靶(ba)材(cai)是一(yi)种通过物理(li)气(qi)相(xiang)沉(chen)积（PVD）技(ji)术（如(ru)磁(ci)控(kong)溅(jian)射(she)）制(zhi)备超(chao)薄(bao)钛金(jin)属(shu)层的高纯度材(cai)料(liao)，主(zhu)要(yao)用(yong)于固态电(dian)解(jie)质(zhi)与电极(ji)界(jie)面层，通过(guo)抑制(zhi)锂(li)枝(zhi)晶生长、提(ti)升离子传输(shu)效率(lv)和(he)界面稳定(ding)性(xing)，解(jie)决(jue)固态电(dian)池(chi)循(xun)环(huan)寿命短的核(he)心痛(tong)点(dian)... 【详情】

清洁建筑玻(bo)璃(li)用(yong)钛靶(ba)材(cai)是(shi)通过(guo)磁(ci)控(kong)溅射(she)或(huo)反(fan)应溅(jian)射(she)工艺，在玻(bo)璃(li)表面沉积二(er)氧(yang)化钛（TiO₂）或氮掺杂TiO₂薄(bao)膜的(de)功(gong)能(neng)性材(cai)料(liao)。其(qi)核(he)心(xin)作用(yong)在(zai)于(yu)赋(fu)予玻(bo)璃(li)自(zi)清洁、光催化(hua)分解污染物(wu)、抗反射(she)及抗(kang)菌(jun)等特(te)性，通过(guo)光(guang)催化(hua)反应分(fen)解表面(mian)有(you)机(ji)物污染物，减少(shao)人(ren)工(gong)清(qing)洁(jie)频(pin)率，提(ti)升(sheng)建筑(zhu)环(huan)保性与美观(guan)性... 【详(xiang)情】

集(ji)成(cheng)电(dian)路(lu)（IC）用钛(tai)靶材是通过物理气相沉积(ji)（PVD）工艺（如(ru)磁(ci)控(kong)溅射(she)、离子镀）在(zai)硅(gui)基(ji)芯(xin)片(pian)表(biao)面(mian)沉积钛(tai)薄膜(mo)的(de)高(gao)纯(chun)度材料，主要(yao)用于导(dao)电(dian)粘附(fu)层、扩(kuo)散(san)阻(zu)挡层(ceng)及接触(chu)孔(kong)填充。其(qi)核(he)心作用(yong)... 【详情(qing)】

产品名称：钛板靶、钛(tai)平(ping)面(mian)靶、钛靶板品名：钛(tai)合(he)金靶板牌号：TC4 产(chan)地：宝鸡(ji) 主(zhu)要(yao)型(xing)式(shi)：圆(yuan)靶/板(ban)靶(ba)/管(guan)靶(ba)牌(pai)号(hao)：TA1，TA2，TC4 圆靶：60/65/70/80/85/90/95/100(D)×20/30/32/35/40/4... 【详(xiang)情】

产(chan)品(pin)名称(cheng)：钛靶(ba)材(cai)、钛多(duo)弧靶, 钛靶块(kuai)，钛(tai)块(kuai)牌(pai)号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执(zhi)行标(biao)准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途(tu)：用(yong)于(yu)半(ban)导(dao)体(ti)分离器件(jian)、平(ping)面(mian)显示器(qi)、储存器电极薄(bao)膜、溅(jian)射镀(du)膜、工(gong)件(jian)表(biao)面(mian)涂(tu)... 【详(xiang)情(qing)】

产(chan)品(pin)名(ming)称：钛(tai)靶(ba)材，钛旋转(zhuan)靶，钛靶管(guan)牌号(hao)：TA0，TA1，TA2/GR1，GR2执(zhi)行(xing)标(biao)准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用(yong)途(tu)：用(yong)于(yu)半导体分离(li)器(qi)件、平(ping)面显示器(qi)、储(chu)存器(qi)电极薄膜(mo)、溅(jian)射镀膜(mo)、工件表(biao)面(mian)涂层，玻(bo)璃... 【详情】

产(chan)品名称：钛(tai)靶材(cai)、钛板(ban)靶(ba)、钛靶板牌号(hao)：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执(zhi)行标(biao)准(zhun)：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途(tu)：用于(yu)半导(dao)体(ti)分(fen)离(li)器件、平(ping)面(mian)显(xian)示器、储存器(qi)电极(ji)薄(bao)膜(mo)、溅(jian)射(she)镀膜、工(gong)件表面涂(tu)层(ceng)，玻(bo)璃(li)... 【详(xiang)情】

产(chan)品(pin)名(ming)称(cheng)：钛靶(ba)材(cai)牌(pai)号(hao)：TA0， TA1， TA2， TC4， TC6， TC11， GR5， TA7 厂家(jia)：凯(kai)泽金(jin)属主(zhu)要形(xing)式：圆靶、板(ban)靶(ba)、管(guan)靶钛(tai)含(han)量(liang)≥：99.8(%)杂(za)质(zhi)含(han)量：0.02(%)重量(liang)：不(bu)等(deng)(KG/块)密度：4.51或(huo)4.50圆(yuan)靶(ba)：60/65/70/8... 【详(xiang)情(qing)】

产品名(ming)称(cheng)：钛(tai)靶块(kuai)执行(xing)标(biao)准(zhun)： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产 地(di)：陕(shan)西(xi)宝鸡材 质(zhi)：Ti纯 度(du)：99.9%-99.99%晶 粒(li) 度：<100um规(gui)格(ge)：可(ke)以(yi)按照(zhao)用(yong)户(hu)需要(yao)定(ding)制(zhi)应用领(ling)域：适(shi)用电(dian)子(zi)、五(wu)金、钟表(biao)、眼镜、... 【详(xiang)情(qing)】

产(chan)品名(ming)称：钛靶(ba)材(cai)、钛(tai)多(duo)弧靶(ba), 钛(tai)靶块(kuai)，钛(tai)块牌号(hao)：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行标准(zhun)：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用(yong)于(yu)半(ban)导(dao)体分(fen)离(li)器件、平面(mian)显示(shi)器(qi)、储存(cun)器(qi)电(dian)极(ji)薄膜(mo)、溅(jian)射(she)镀(du)膜(mo)、工(gong)件(jian)表面(mian)涂(tu)... 【详情(qing)】

产(chan)品名(ming)称(cheng)：TA0钛靶(ba)执行标(biao)准： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产(chan) 地：陕(shan)西宝鸡材 质：Ti纯 度：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um规格(ge)：可以按(an)照(zhao)用户(hu)需(xu)要定(ding)制应(ying)用(yong)领(ling)域：适用电(dian)子(zi)、五金(jin)、钟表(biao)、眼镜、... 【详情】

产(chan)品(pin)名称：TA1钛(tai)靶执行标准(zhun)： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产 地(di)：陕(shan)西(xi)宝(bao)鸡材 质：Ti纯(chun) 度(du)：99.9%-99.99%晶(jing) 粒(li) 度：<100um规(gui)格：可以按照用户(hu)需要定制(zhi)应用领(ling)域(yu)：适(shi)用电子、五(wu)金、钟(zhong)表(biao)、眼镜(jing)、... 【详(xiang)情(qing)】

产(chan)品名(ming)称(cheng)：TA0钛(tai)靶产 地：陕(shan)西(xi)宝鸡材 质：Ti纯(chun) 度(du)：99.9%-99.99%晶 粒 度：<100um规(gui)格：可以(yi)按(an)照(zhao)用户需(xu)要(yao)定制(zhi)应用领域(yu)：适(shi)用(yong)电(dian)子、五(wu)金(jin)、钟表(biao)、眼(yan)镜、首(shou)饰、刀(dao)具、模具(ju)、玩(wan)具、厨具、器皿... 【详(xiang)情】

名(ming)称：钛(tai)靶材、钛(tai)多(duo)弧(hu)靶(ba), 钛平面靶，钛(tai)旋(xuan)转靶(ba)牌(pai)号(hao)：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执(zhi)行标准(zhun)：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用(yong)途：用于(yu)半导(dao)体(ti)分(fen)离器(qi)件、平(ping)面(mian)显(xian)示器、储存器(qi)电极(ji)薄膜、溅射镀膜、工件表面(mian)... 【详情(qing)】

产(chan)品(pin)名(ming)称：钛靶(ba)材、钛(tai)多(duo)弧靶(ba), 钛(tai)靶块(kuai)，钛块(kuai)牌号：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行(xing)标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用(yong)途：用于半导体分离器件(jian)、平面(mian)显示(shi)器、储(chu)存器电极薄(bao)膜、溅(jian)射镀膜(mo)、工件表(biao)面涂(tu)... 【详(xiang)情(qing)】