1、定(ding)义(yi)
钛(tai)管靶是一(yi)种(zhong)中空(kong)圆柱(zhu)形钛金属(shu)材料，专(zhuan)为旋转阴(yin)极溅射(she)镀膜设计，通(tong)过高速(su)旋(xuan)转（通常200-500 rpm）实现(xian)靶材表(biao)面(mian)均(jun)匀(yun)刻蚀，提(ti)升材(cai)料利(li)用(yong)率(lv)（可达80%以上，而平面靶仅(jin)40-60%）。
2、性能特(te)点
| 特(te)性(xing) | 数(shu)值/描述(shu) | 优(you)势 |
| 溅(jian)射均匀(yun)性 | 膜厚偏差≤±3% (对(dui)比平面靶±8%) | 适(shi)合大面(mian)积连续镀(du)膜（如卷(juan)绕(rao)式镀膜生(sheng)产线(xian)） |
| 散(san)热(re)效率(lv) | 水冷(leng)系(xi)统接(jie)触(chu)面(mian)积增加50% | 支持高(gao)功率(lv)溅射(she)（10-15 kW） |
| 材(cai)料利用(yong)率 | 80-90% (平面靶40-60%) | 降低(di)单次镀(du)膜(mo)成本 |
| 机械(xie)强(qiang)度(du) | 壁(bi)厚≥5mm时(shi)抗弯强(qiang)度≥300 MPa | 可(ke)承(cheng)受高速(su)旋转离心力(li) |
3、常用(yong)材质(zhi)牌(pai)号
| 标(biao)准体(ti)系(xi) | 牌号 | 纯(chun)度要(yao)求 | 适用场(chang)景 |
| ASTM | Grade 2 | ≥99.7% Ti | 常规(gui)装(zhuang)饰(shi)镀(du)膜、工具(ju)涂层(ceng) |
| GB/T 3620.1 | TA1 | ≥99.9% Ti | 光学(xue)镀(du)膜、半(ban)导(dao)体(ti)封(feng)装(zhuang) |
| JIS H 4650 | TP340 | ≥99.8% Ti | 显(xian)示面板ITO导(dao)电(dian)层 |
| 特(te)殊高纯(chun) | Ti-5N | 99.999% Ti | EUV光刻机反射镜(jing)镀(du)膜(mo) |
4、执行标(biao)准
国际(ji)标(biao)准：
ASTM B338: 钛及(ji)钛合(he)金(jin)无缝管(guan)（规定尺寸公(gong)差±0.1mm）
ISO 5832-2: 外科植入(ru)物(wu)用(yong)钛(tai)材(cai)（适(shi)用(yong)于(yu)医疗(liao)镀(du)膜(mo)靶材）
中(zhong)国(guo)标准：
GB/T 3624: 钛及钛合(he)金(jin)管材（壁厚公(gong)差(cha)±10%）
GB/T 5193: 溅射(she)靶(ba)材(cai)晶粒(li)度(du)要(yao)求（晶粒尺(chi)寸(cun)≤50 μm）
5、应(ying)用领域(yu)
| 领(ling)域 | 具体(ti)应用 | 性能(neng)要求 |
| 显示面(mian)板(ban) | OLED阳(yang)极层、TFT导电(dian)层(ceng) | 纯度(du)≥99.95%，氧含量<500 ppm |
| 光伏产(chan)业(ye) | 薄(bao)膜(mo)太阳(yang)能电(dian)池背电(dian)极(ji) | 厚(hou)度(du)均(jun)匀(yun)性CV≤2% |
| 医疗(liao)器械 | 人(ren)工关(guan)节(jie)抗菌涂层 | 符合(he)ISO 10993生(sheng)物相容(rong)性标(biao)准 |
| 汽(qi)车(che)玻(bo)璃(li) | 隔热Low-E膜(mo) | 耐高(gao)温(wen)循环（-30~300℃） |
6、与(yu)其他钛(tai)靶(ba)类型的(de)区别(bie)
| 参数 | 钛管(guan)靶(ba) | 钛(tai)板(ban)靶(ba) | 钛靶(ba)块（柱(zhu)状(zhuang)靶(ba)） |
| 形状 | 空心(xin)圆(yuan)柱（Φ50-500mm×L≤3m） | 平(ping)面(mian)矩(ju)形(xing)/圆形 | 实心(xin)圆柱/立(li)方体 |
| 溅(jian)射(she)方(fang)式(shi) | 旋转阴极(ji)（动(dong)态镀膜） | 固(gu)定(ding)阴(yin)极(ji)（静态(tai)镀(du)膜） | 磁控扫描(miao)溅射 |
| 材料利(li)用(yong)率 | 80-90% | 40-60% | 50-70% |
| 典(dian)型(xing)应用(yong) | 卷(juan)绕(rao)式(shi)连(lian)续(xu)镀膜(mo) | 小(xiao)面(mian)积(ji)精密镀膜(mo) | 高(gao)功率脉(mai)冲(chong)溅(jian)射(she)（HiPIMS） |
| 成本 | 高（需精密(mi)离心铸(zhu)造(zao)） | 中 | 低(di) |
7、选(xuan)购方法
尺寸(cun)匹配(pei)：
内(nei)径(jing)需(xu)与(yu)旋转阴(yin)极轴公差(cha)配合(he)（推(tui)荐H7/g6间隙(xi)配合）
长(zhang)度(du)根(gen)据(ju)镀(du)膜(mo)腔室(shi)尺寸(cun)选(xuan)择（常见1-2.5m）
纯(chun)度验(yan)证(zheng)：
要(yao)求(qiu)提供GDMS报告(gao)（重(zhong)点关注(zhu)Al≤50 ppm、Fe≤100 ppm）
结(jie)构检测(ce)：
超声波(bo)探伤(shang)（UT）检(jian)测壁厚(hou)均匀(yun)性(xing)（偏(pian)差(cha)≤±0.2mm）
EBSD分析晶粒取向（择(ze)优(you)取向(xiang)（002）面(mian)占(zhan)比≥60%）
供应(ying)商(shang)资质：
需(xu)具备真空自(zi)耗电弧(hu)炉（VAR）+冷(leng)轧（Pilger Mill）生(sheng)产线
8、注意事(shi)项
安(an)装(zhuang)精度：
同(tong)心(xin)度(du)偏(pian)差(cha)≤0.05mm/m，防(fang)止旋转(zhuan)振(zhen)动导致膜层(ceng)波(bo)纹
冷却系(xi)统：
水(shui)温需(xu)控制在15-25℃，流(liu)量(liang)≥20 L/min（避(bi)免靶(ba)材(cai)过热变形）
寿命管理(li)：
当(dang)壁厚磨损至(zhi)原(yuan)始值(zhi)50%（如初(chu)始10mm剩5mm）时(shi)需更(geng)换(huan)
安(an)全规范(fan)：
钛粉(fen)尘(chen)爆(bao)炸(zha)浓度(du)下限(xian)为(wei)45 g/m³，加工区(qu)需配(pei)备NFPA 68标准防爆(bao)系(xi)统(tong)
钛(tai)管(guan)靶凭(ping)借(jie)其高(gao)材料(liao)利用(yong)率和均匀(yun)镀膜特性，在(zai)显示(shi)面板(ban)（如G10.5代(dai)线需Φ450×2500mm靶(ba)管）和(he)光伏(fu)领域(yu)占据主导地位。相(xiang)比钛板(ban)靶(ba)，其(qi)采购成(cheng)本高约(yue)30%，但综合(he)镀膜(mo)效(xiao)率(lv)提升50%以上(shang)。特殊(shu)应(ying)用（如(ru)EUV镀(du)膜(mo)）需(xu)选(xuan)择(ze)单(dan)晶(jing)钛管(guan)靶(ba)（晶(jing)向(xiang)偏(pian)差(cha)<1°），并(bing)配(pei)合(he)离(li)子束辅助沉积(ji)（IBAD）工艺(yi)，实(shi)现膜(mo)层表(biao)面(mian)粗(cu)糙度<0.2 nm。
