凯(kai)泽(ze)金(jin)属(shu)谈(tan)真(zhen)空镀(du)膜(mo)领(ling)域用(yong)钛(tai)靶(ba)材(cai)的特点

新(xin)型(xing)的(de)溅镀(du)设备几乎(hu)都使用(yong)强力磁(ci)铁(tie)将(jiang)电子成螺旋(xuan)状(zhuang)运(yun)动(dong)以(yi)加速(su)靶材(cai)周围(wei)的氩气离子化，造(zao)成(cheng)靶(ba)与氩(ya)气(qi)离(li)子间的(de)撞(zhuang)击(ji)机(ji)率(lv)增加，提高溅镀速率。一(yi)般金(jin)属镀(du)膜大(da)都采用(yong)直(zhi)流溅镀，而(er)不导电的陶(tao)磁材(cai)料(liao)则(ze)使(shi)用RF交(jiao)流溅镀(du)，基(ji)本的(de)原(yuan)理(li)是在真(zhen)空中利用辉光放电(dian)（glow discharge）将(jiang)氩气（Ar）离(li)子撞击(ji)靶材(cai)（target）表面，电(dian)浆中(zhong)的(de)阳离子会加(jia)速(su)冲(chong)向作为被溅(jian)镀(du)材(cai)的负电(dian)极(ji)表面，这(zhe)个(ge)冲(chong)击将使(shi)靶(ba)材(cai)的(de)物质飞出(chu)而(er)沉(chen)积在基(ji)板(ban)上形成薄膜。金属靶(ba)材(cai)生产供(gong)应(ying)商-凯(kai)泽金属，将(jiang)真(zhen)空(kong)镀膜领域(yu)用钛(tai)靶材(cai)的特(te)点，分(fen)享(xiang)如(ru)下：

一般(ban)来(lai)说(shuo)，利(li)用溅射进(jin)行镀膜(mo)有(you)几个特(te)点：

（1）金属、合(he)金或绝缘(yuan)物均(jun)可做成(cheng)薄膜(mo)材料。

（2）在(zai)适当(dang)的设(she)定(ding)条(tiao)件(jian)下可(ke)将(jiang)多元(yuan)复杂(za)的靶材(cai)制作出同(tong)一(yi)组成(cheng)的(de)薄(bao)膜。

（3）利(li)用放电(dian)气(qi)氛(fen)中加(jia)入氧(yang)或其它的活性(xing)气体(ti)，可以(yi)制(zhi)作靶(ba)材(cai)物质与气(qi)体分(fen)子的混合(he)物或(huo)化合(he)物。

（4）靶材输(shu)入(ru)电(dian)流(liu)及(ji)溅射时(shi)间可(ke)以(yi)控制(zhi)，容易得(de)到(dao)高(gao)精度的膜(mo)厚。

（5）较其(qi)它制(zhi)程利(li)于生产大面积的(de)均一(yi)薄膜(mo)。

（6）溅(jian)射(she)粒子几(ji)不受(shou)重力影响(xiang)，靶材与(yu)基板位(wei)置可(ke)自(zi)由(you)安(an)排(pai)。

（7）基(ji)板(ban)与膜的(de)附着(zhe)强度(du)是一(yi)般(ban)蒸镀(du)膜(mo)的10倍(bei)以上(shang)，且由于溅射粒子(zi)带有高(gao)能量(liang)，在成膜面会继(ji)续表(biao)面(mian)扩(kuo)散而得(de)到硬(ying)且(qie)致(zhi)密的薄(bao)膜(mo)，同(tong)时(shi)此高能(neng)量使基(ji)板(ban)只要(yao)较(jiao)低的温度即(ji)得(de)到(dao)结晶(jing)膜。

（8）薄膜(mo)形(xing)成(cheng)初(chu)期成核(he)密度高，可生(sheng)产(chan)10nm以下的(de)极(ji)薄(bao)连续膜。

（9）靶材(cai)的寿命(ming)长(zhang)，可(ke)长时(shi)间(jian)自动(dong)化连(lian)续生产。

（10）钛靶(ba)材可(ke)制(zhi)作(zuo)成(cheng)各种(zhong)形状(zhuang)，配(pei)合机台(tai)的特(te)殊(shu)设(she)计做更好(hao)的控(kong)制(zhi)及最有效(xiao)率(lv)。

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