钛(tai)材在(zai)航(hang)空(kong)航天领域具有广(guang)泛的应用，对(dui)其性(xing)能(neng)提(ti)出了更高的(de)要(yao)求，宝钢(gang)、西北(bei)有(you)色院等大(da)量(liang)研究了(le)变形和(he)热处理(li)制度(du)对钛材组(zu)织(zhi)和(he)性能(neng)的(de)影(ying)响(xiang)[1-2]。TiN薄(bao)膜(mo)具有(you)高(gao)的耐(nai)磨性、高的(de)硬度、低(di)的电(dian)阻(zu)率(lv)，可阻挡(dang)扩散(san)以及呈现(xian)独(du)特(te)的金黄色(se)等特(te)点(dian)，广(guang)泛(fan)应用于工(gong)模具(ju)、一些(xie)装饰材料的(de)表面(mian)处(chu)理(li)和(he)集成电路(lu)产业的阻挡(dang)扩散层(ceng)等(deng)。自其问世(shi)以来(lai)，有(you)效(xiao)提高(gao)了加工(gong)效率(lv)和加工(gong)质量(liang)。一(yi)些(xie)学者(zhe)对(dui)不同工(gong)艺(yi)，如(ru)氮(dan)气流量、偏(pian)压等工艺参(can)数(shu)对(dui)TiN薄(bao)膜(mo)的微观(guan)结构、成(cheng)分和(he)性(xing)能的影(ying)响(xiang)进(jin)行(xing)了深(shen)入研(yan)究[3-7]，而(er)对钛靶(ba)材(cai)微观(guan)结构对薄(bao)膜性(xing)能影(ying)响的研究(jiu)较少[8-9]。基于(yu)此，本文采(cai)用不同工艺(yi)制度(du)制作了微观(guan)结构(gou)不(bu)同的四种钛(tai)靶，在(zai)同(tong)一(yi)溅射(she)工(gong)艺下，在高(gao)速钢(gang)基底上沉(chen)积(ji)了TiN薄(bao)膜，分析了钛靶材(cai)的微(wei)观结(jie)构(gou)以及TiN薄膜(mo)的表面形貌(mao)、成分、断(duan)口(kou)、纳(na)米硬度(du)和相(xiang)结(jie)构，探讨(tao)了Ti靶材的(de)微(wei)观结(jie)构(gou)与其(qi)溅(jian)射生(sheng)成的TiN薄(bao)膜的(de)微观(guan)结(jie)构和(he)性能的(de)关(guan)系，并(bing)进一步分(fen)析(xi)了原因。
1、试验(yan)材(cai)料(liao)与分析(xi)
试验(yan)采用(yong)的镀(du)膜设备是四(si)川大(da)学自制PEMS-800型PVD磁(ci)控溅(jian)射(she)镀(du)膜(mo)机。镀(du)膜(mo)过(guo)程(cheng)中的(de)工作气(qi)体为(wei)高纯(chun)氩(ya)气(qi)和氮气(qi)，在沉积薄(bao)膜之(zhi)前(qian)先(xian)对靶(ba)材进(jin)行(xing)离(li)子(zi)刻(ke)蚀清(qing)洗(xi)。选(xuan)用(yong)的(de)靶材为不同微(wei)观(guan)结(jie)构的纯(chun)钛(tai)靶，这(zhe)四种靶(ba)材采(cai)用(yong)同一(yi)镀(du)膜工(gong)艺(yi)沉积(ji)薄(bao)膜，选(xuan)用的基体(ti)为(wei)高(gao)速(su)钢基(ji)体，TiN薄膜(mo)镀膜工艺为：本(ben)底(di)真(zhen)空(kong)度(du)为3.7×10-4Pa，基(ji)体(ti)偏压35V，溅(jian)射(she)气(qi)压为0.5Pa，氩气流量(liang)比(bi)为(wei)85sccm，氮(dan)气(qi)体(ti)流量比(bi)为35sccm，沉(chen)积(ji)时(shi)间300min，靶(ba)电(dian)流为5.0A，靶(ba)材(cai)到高速钢(gang)基体(ti)的距离(li)为(wei)200mm。
采(cai)用FEI的(de)NovaNanoSEM450场发(fa)射(she)扫描电(dian)镜观察薄(bao)膜的表面(mian)形(xing)貌(mao)；采用美国Veeco公司(si)的(de)原(yuan)子力(li)显(xian)微镜(jing)观察涂层的表面形(xing)貌(mao)，计(ji)算涂层的(de)表(biao)面(mian)粗(cu)糙度(du)。选(xuan)用(yong)美国(guo)Aglient公司(si)的纳(na)米硬(ying)度(du)仪（NanoIndenterXP）测定(ding)涂层(ceng)的纳(na)米硬(ying)度，测试方法(fa)是(shi)连续(xu)刚(gang)度法(fa)。采(cai)用X射线衍(yan)射仪(yi)(Philips，Holland)分(fen)析(xi)了两(liang)种靶材(cai)及其(qi)薄(bao)膜的(de)相(xiang)结构(gou)，衍射(she)时(shi)选(xuan)用Cu靶（λ=1.54056Å）。
2、结(jie)果(guo)与(yu)讨论
2.1钛靶的微观结(jie)构
钛(tai)有两种(zhong)同(tong)素(su)异(yi)构(gou)体(ti)α-Ti和(he)β-Ti，α-Ti在882℃以(yi)下稳(wen)定，为密排(pai)六(liu)方结构(gou)；β-Ti在(zai)882℃与熔点1678℃之(zhi)间稳(wen)定存在(zai)，为(wei)体(ti)心(xin)立方(fang)结(jie)构(gou)。在(zai)882℃两者(zhe)发(fa)生转(zhuan)变。本研究采(cai)用(yong)不(bu)同轧制工(gong)艺(yi)和热处(chu)理制(zhi)度生(sheng)产(chan)了(le)四(si)种不(bu)同微观(guan)组织(zhi)的钛(tai)靶，从靶(ba)材(cai)的(de)轧制面(mian)（靶材(cai)的(de)溅(jian)射(she)面(mian)）取10mm×10mm样(yang)品(pin)，采用(yong)金(jin)相显微(wei)镜(jing)分析(xi)了(le)金(jin)相，见图1。图(tu)1（a）～（c）中(zhong)A、B和C靶(ba)是α等(deng)轴组(zu)织及少(shao)量的(de)晶间(jian)β（暗(an)），平均(jun)晶粒尺(chi)寸分(fen)别为(wei)48、153、230μm；图(tu)1（d）中(zhong)D靶(ba)是粗(cu)大的原始β晶粒，晶界清(qing)晰(xi)完整，有连(lian)续(xu)的(de)晶(jing)界α镶(xiang)边(bian)，在(zai)β晶(jing)粒(li)内(nei)有细(xi)长平直(zhi)、互相平(ping)行的片(pian)状(zhuang)β转变(bian)组织，即(ji)片状(zhuang)α相(xiang)，是典(dian)型的(de)魏(wei)氏组织[10-11]，α晶(jing)粒的(de)平(ping)均晶(jing)粒尺寸为520μm，片(pian)层(ceng)厚(hou)度约(yue)为(wei)10μm。
2.2TiN薄膜结(jie)构(gou)和性能(neng)分(fen)析(xi)
2.2.1TiN薄膜表面(mian)扫(sao)描电镜形貌(mao)分(fen)析
图(tu)2是(shi)四(si)种(zhong)微(wei)观(guan)结(jie)构(gou)不同(tong)钛靶(ba)反应(ying)溅射(she)得到的TiN薄(bao)膜(mo)SEM表面(mian)形(xing)貌(mao)。可(ke)看出，薄膜(mo)A表面颗粒(li)尺(chi)寸(cun)最(zui)大，薄膜(mo)C次(ci)之(zhi)，薄(bao)膜D表面颗粒(li)尺寸最(zui)小。
随着(zhe)等(deng)轴(zhou)晶(jing)Ti靶晶粒(li)尺寸(cun)逐渐变(bian)大(da)，薄(bao)膜表面(mian)的液(ye)滴(di)数量先(xian)变(bian)少(shao)后(hou)变多(duo)，以(yi)魏氏(shi)组织(zhi)Ti靶(ba)反应溅射生成的TiN薄(bao)膜表(biao)面的液滴数(shu)量(liang)最(zui)多(duo)。随着等轴晶(jing)Ti靶(ba)晶(jing)粒尺寸的逐(zhu)渐变(bian)大，薄(bao)膜(mo)表(biao)面颗粒尺寸先变(bian)小(xiao)后(hou)变(bian)大(da)，以魏(wei)氏组织Ti靶反(fan)应(ying)溅射(she)生成的TiN薄膜（见图2（d））表(biao)面(mian)颗粒尺寸(cun)最(zui)小(xiao)，此分(fen)析与(yu)后文(wen)薄膜(mo)表面AFM的(de)分(fen)析结(jie)果(guo)一(yi)致。
2.2.2TiN薄(bao)膜表(biao)面原(yuan)子力显微镜分析
从图(tu)3薄膜(mo)的(de)原(yuan)子(zi)力显微图(tu)像来看，薄(bao)膜(mo)A表面(mian)颗粒(li)顶部尺(chi)寸(cun)较(jiao)尖(jian)，薄(bao)膜(mo)B表(biao)面(mian)颗(ke)粒(li)顶(ding)部次之，薄膜C和(he)薄(bao)膜(mo)D表面颗粒顶部(bu)较(jiao)为(wei)圆(yuan)滑。薄膜(mo)A的凸起颗粒尺寸较大，薄(bao)膜(mo)B的(de)凸起颗粒尺寸次(ci)之，薄膜(mo)D的(de)凸(tu)起(qi)颗粒尺(chi)寸(cun)最(zui)小(xiao)。这说(shuo)明(ming)在(zai)溅(jian)射(she)工(gong)艺(yi)相同的(de)情况(kuang)下(xia)，薄(bao)膜的(de)表面微观结(jie)构存(cun)在差(cha)别(bie)。
根(gen)据(ju)图(tu)4薄膜表面(mian)颗粒的大小(xiao)曲(qu)线，薄膜A表面的(de)颗粒(li)尺(chi)寸(cun)最大(da)，薄膜(mo)B表面的(de)颗(ke)粒(li)尺(chi)寸(cun)次(ci)之，薄(bao)膜D表面(mian)的颗粒(li)尺(chi)寸最小。从(cong)用原(yuan)子(zi)力(li)显(xian)微镜测(ce)得的(de)薄(bao)膜(mo)表(biao)面(mian)的(de)粗糙(cao)度（图4）来(lai)看，薄膜A表面的(de)粗(cu)糙(cao)度(du)最高(gao)，薄(bao)膜(mo)B的(de)表面(mian)粗(cu)糙(cao)度次(ci)之(zhi)，薄膜D的表面(mian)粗糙度(du)最小(xiao)。随着(zhe)等轴晶Ti靶晶粒(li)尺寸(cun)的(de)逐(zhu)渐变大(da)，薄(bao)膜(mo)表面(mian)颗粒(li)尺(chi)寸先(xian)变小(xiao)后(hou)变(bian)大；而(er)以魏氏组(zu)织Ti靶反(fan)应溅射(she)生(sheng)成的TiN薄(bao)膜(mo)表面(mian)颗(ke)粒(li)尺(chi)寸最(zui)小；随着等轴晶Ti靶(ba)晶(jing)粒尺寸(cun)的逐(zhu)渐变大，薄(bao)膜(mo)表面(mian)粗(cu)糙(cao)度逐(zhu)渐(jian)变小(xiao)；以魏(wei)氏(shi)组(zu)织(zhi)Ti靶(ba)反应(ying)溅(jian)射(she)生成的TiN薄膜表面表面(mian)粗糙度(du)最(zui)小(xiao)。此(ci)分析与(yu)前文(wen)薄(bao)膜(mo)表面SEM的分析(xi)结(jie)果(guo)一(yi)致。
2.2.3薄(bao)膜化(hua)学(xue)成(cheng)分分析
表(biao)1是TiN薄(bao)膜(mo)的化学成(cheng)分。可(ke)看(kan)出(chu)，薄(bao)膜D中(zhong)N含量(liang)最(zui)高(gao)，薄(bao)膜A中(zhong)N含(han)量次(ci)之(zhi)，薄(bao)膜(mo)B中(zhong)N含(han)量最(zui)低(di)，但(dan)薄(bao)膜(mo)A、B和(he)C中(zhong)N含(han)量(liang)相(xiang)差(cha)不(bu)大(da)。
随着等(deng)轴(zhou)晶(jing)钛(tai)靶晶(jing)粒尺寸的(de)变(bian)大(da)，薄(bao)膜(mo)中的N含(han)量先(xian)降低后升(sheng)高(gao)；而(er)以(yi)魏(wei)氏组织钛(tai)靶所沉(chen)积薄(bao)膜的N含量(liang)最(zui)高(gao)。
2.2.4TiN薄(bao)膜(mo)断口(kou)分析(xi)
从(cong)图(tu)5薄(bao)膜(mo)的(de)断(duan)口分(fen)析(xi)可看(kan)出(chu)四种薄(bao)膜(mo)具有(you)相(xiang)似(shi)的(de)结(jie)构，柱(zhu)状晶明显，薄(bao)膜(mo)沿(yan)柱(zhu)状(zhuang)晶(jing)方(fang)向生长，从底(di)部(bu)一(yi)直(zhi)生(sheng)长(zhang)到薄(bao)膜(mo)表(biao)面(mian)。薄(bao)膜A的(de)柱状晶(jing)尺寸最(zui)大(da)，薄膜C的柱状晶尺(chi)寸(cun)次(ci)之，薄(bao)膜B的(de)柱状晶(jing)尺寸最(zui)小(xiao)，魏(wei)氏组(zu)织钛靶沉积(ji)薄(bao)膜(mo)D的柱状(zhuang)晶尺(chi)寸(cun)介于(yu)薄膜(mo)C和(he)薄(bao)膜(mo)B之间(jian)。随(sui)着(zhe)等轴晶(jing)Ti靶(ba)晶(jing)粒(li)尺寸的逐渐变大，Ti靶反应溅射生(sheng)成(cheng)的TiN薄膜的(de)柱状晶(jing)的(de)尺寸(cun)基本先变小(xiao)后变(bian)大。魏氏(shi)组织Ti靶反(fan)应(ying)生成(cheng)的TiN薄膜(mo)断(duan)口(kou)与等(deng)轴晶Ti靶反(fan)应(ying)生(sheng)成(cheng)的TiN薄(bao)膜无(wu)明显的区(qu)别(bie)。
从图6薄(bao)膜的厚度(du)曲线可看出，薄膜A的(de)厚度略大于(yu)薄膜(mo)C的(de)厚度(du)，薄膜D的(de)厚(hou)度(du)最小(xiao)，说(shuo)明(ming)薄(bao)膜D的(de)沉(chen)积速率(lv)低于薄膜A、B和(he)C。随着(zhe)等(deng)轴晶(jing)Ti靶晶(jing)粒(li)尺(chi)寸(cun)的逐渐变大,反(fan)应溅(jian)射生成的(de)TiN薄(bao)膜的(de)的(de)厚(hou)度先(xian)变小(xiao)后变大(da)；魏氏组织(zhi)Ti靶反(fan)应生成的(de)TiN薄膜厚度(du)小(xiao)于(yu)等(deng)轴(zhou)晶Ti靶反应(ying)生成(cheng)的TiN薄(bao)膜。
2.2.5TiN薄膜的硬度(du)
图7是(shi)不同(tong)薄膜的硬度。可看(kan)出(chu)，薄(bao)膜(mo)A的硬(ying)度(du)略高(gao)于(yu)薄(bao)膜B的(de)硬(ying)度，薄(bao)膜(mo)C的硬度(du)远(yuan)高(gao)于薄(bao)膜A和(he)薄膜B的硬(ying)度(du)，在四(si)种(zhong)薄(bao)膜(mo)中硬(ying)度最高，薄膜(mo)D的硬(ying)度低(di)于(yu)薄膜C的(de)硬(ying)度，但高(gao)于(yu)薄膜(mo)A和薄(bao)膜B的(de)硬(ying)度。随(sui)着等轴晶(jing)Ti靶晶粒(li)尺(chi)寸的逐(zhu)渐(jian)变(bian)大(da)，反应(ying)溅射生(sheng)成(cheng)的TiN薄(bao)膜(mo)的硬度先变小(xiao)后(hou)变大，而魏氏(shi)组(zu)织(zhi)钛(tai)靶沉积薄膜(mo)D的(de)硬(ying)度(du)介于薄(bao)膜(mo)C与(yu)A之(zhi)间。
2.2.6薄(bao)膜(mo)的(de)相结(jie)构分(fen)析(xi)
从(cong)图(tu)8薄膜的(de)相(xiang)结构分析(xi)来(lai)看(kan)，A、B、C、D薄膜的(de)相结(jie)构中TiN的（111）峰(feng)最强(qiang)，但(dan)A薄(bao)膜(mo)中(zhong)还(hai)包(bao)含TiN的（200）、（220）峰(feng)，Ti2N的（200）、（303）峰(feng)，其(qi)中TiN的(de)（220）峰(feng)和Ti2N的（200）峰(feng)是(shi)次(ci)强(qiang)峰(feng)；B薄(bao)膜中(zhong)还(hai)包(bao)含Ti2N的(de)（200）和(he)（303）峰，Ti2N的(de)（200）峰与A薄膜中(zhong)相当(dang)；C薄膜(mo)中仅(jin)含(han)有微(wei)量的TiN的（200）峰和Ti2N的（303）峰，并且(qie)非(fei)常(chang)微弱(ruo)，（111）取(qu)向(xiang)最(zui)明显，强度(du)最大(da)；D薄膜(mo)中(zhong)除(chu)TiN（111）、Ti2N峰之(zhi)外(wai)，无其它(ta)峰不明(ming)显，（111）取向明显(xian)，但(dan)其(qi)衍(yan)射(she)峰的强(qiang)度(du)小(xiao)于(yu)薄膜C衍(yan)射(she)峰的(de)强(qiang)度(du)。
2.3讨(tao)论
通(tong)过对(dui)比(bi)分析(xi)微观结构不(bu)同(tong)的(de)钛靶(ba)沉积(ji)得(de)到(dao)的TiN薄膜的(de)结(jie)构与性(xing)能，发现钛(tai)靶微观结(jie)构的变化(hua)对(dui)薄膜结构(gou)和(he)性(xing)能有(you)很(hen)大影响。随(sui)着(zhe)等(deng)轴(zhou)晶钛靶(ba)晶粒尺寸(cun)的变大(da)，TiN薄膜的粗(cu)糙(cao)度(du)逐(zhu)渐(jian)变小(xiao)，这是(shi)由于Ti靶晶(jing)粒小，晶界大量存在(zai)，靶材(cai)溅(jian)射(she)速率较大(da)，溅射产(chan)生(sheng)的(de)粒(li)子(zi)多(duo)，反溅(jian)射弱，沉积(ji)速度较快(kuai)，故表面(mian)粗(cu)糙(cao)度较(jiao)大；反之，粗(cu)糙度较低。薄(bao)膜(mo)柱状晶的(de)尺(chi)寸与(yu)薄(bao)膜的厚度存在(zai)关(guan)联(lian)，薄(bao)膜越厚，柱状晶尺寸(cun)越(yue)大；薄(bao)膜的厚(hou)度越(yue)薄，柱(zhu)状(zhuang)晶尺(chi)寸(cun)越小(xiao)；表(biao)面颗粒(li)尺寸逐渐(jian)变小(xiao)，硬度(du)先(xian)变大后变小(xiao)，这与(yu)靶材的(de)沉积(ji)速(su)率，粒子的沉(chen)积能(neng)量(liang)以(yi)及(ji)与反(fan)应气体(ti)的(de)反应(ying)程度(du)有关。魏氏组(zu)织(zhi)Ti靶沉(chen)积(ji)的TiN薄(bao)膜，兼具(ju)大晶粒(li)等轴(zhou)晶(jing)靶材(cai)和小晶(jing)粒等轴晶(jing)靶材(cai)的(de)特(te)征(zheng)，得(de)到(dao)的TiN薄膜表面光滑，表面(mian)颗(ke)粒(li)细(xi)小，柱状(zhuang)晶细(xi)小(xiao)，TiN薄(bao)膜(mo)纳(na)米硬(ying)度仅低于靶(ba)材(cai)C沉积的(de)TiN薄膜的纳米硬度(du)。薄(bao)膜的硬度与(yu)薄膜(mo)中的(de)氮含量关(guan)系(xi)不(bu)大，主要(yao)与薄膜(mo)中(zhong)TiN（111）的择(ze)优(you)取向程(cheng)度(du)有关，择(ze)优取向度(du)越高(gao)，硬度越高。
3、结论
（1）Ti靶(ba)材(cai)的(de)微(wei)观结构(gou)影响(xiang)其沉(chen)积的(de)TiN薄(bao)膜(mo)的(de)微观结构(gou)和(he)性能(neng)。等轴晶Ti靶(ba)的晶粒(li)尺(chi)寸越(yue)大，所(suo)沉积(ji)的TiN薄(bao)膜(mo)的表(biao)面粗(cu)糙度越小(xiao)，表(biao)面液滴数(shu)量(liang)先(xian)变少(shao)后(hou)变(bian)多，表面(mian)颗(ke)粒(li)尺(chi)寸(cun)先变(bian)小后(hou)变大(da)，膜(mo)中氮(dan)含(han)量(liang)先(xian)降(jiang)低后(hou)升(sheng)高(gao)，柱状晶尺(chi)寸先变(bian)小后(hou)变(bian)大，薄膜(mo)厚(hou)度(du)先(xian)变(bian)小后(hou)变大(da)，硬度先变(bian)小后变大。
（2）魏(wei)氏组(zu)织Ti靶沉(chen)积(ji)的薄(bao)膜，兼具(ju)大晶粒(li)等(deng)轴(zhou)晶靶材(cai)和小(xiao)晶粒等(deng)轴晶靶材的(de)特(te)征。沉积得到的TiN薄(bao)膜(mo)在四(si)种薄(bao)膜中(zhong)，表(biao)面(mian)粗(cu)糙(cao)度最(zui)低，表(biao)面液(ye)滴(di)数(shu)量最(zui)少(shao)，表面(mian)颗(ke)粒(li)尺(chi)寸(cun)最小，薄膜中(zhong)氮(dan)含量最(zui)高，柱(zhu)状晶尺寸居中，薄(bao)膜厚(hou)度(du)最(zui)小(xiao)，硬(ying)度(du)仅(jin)次(ci)于薄(bao)膜C的硬度。
（3）由(you)于靶材(cai)的(de)微观结构(gou)不(bu)同(tong)，造成(cheng)溅射(she)时(shi)产生(sheng)的粒(li)子(zi)的(de)能量、数量，薄(bao)膜沉积速(su)率、反(fan)溅射能(neng)力(li)等溅(jian)射(she)行(xing)为的差别，以(yi)致产生薄膜结构和性能的(de)差(cha)别。薄(bao)膜(mo)的硬(ying)度与(yu)薄(bao)膜(mo)中氮(dan)含量(liang)相关(guan)不大，主(zhu)要与薄(bao)膜(mo)中TiN（111）的择(ze)优(you)取(qu)向(xiang)程(cheng)度(du)有关(guan)，择优(you)取向度越高，硬度越高(gao)。
参(can)考文献：
[1]蒋(jiang)建华(hua)，丁毅，单(dan)爱(ai)党．冷轧工业(ye)纯钛(tai)的(de)微观组织(zhi)及(ji)力学(xue)性能[J]．中国有色(se)金(jin)属(shu)学(xue)报，2010，20（1）：58-61．
[2]陈溪(xi)强(qiang)．轧(ya)制(zhi)工(gong)艺对(dui)工业(ye)纯钛组织性(xing)能的(de)影(ying)响[J]．钢铁钒钛(tai)，2009，30（4）：16-20．
[3]赵(zhao)海波(bo)，高见，周(zhou)彤(tong)．欧(ou)洲刀(dao)具(ju)涂层最(zui)新状(zhuang)况及发展模式[J].工具技术(shu)，2005，39(4)：3-9．
[4]Ma Guojia， Wang Liliang， Gao Haoxiang， et al．The friction coefficient evolution of a TiN coated contact during sliding wear [J]．AppliedSurfaceScience，2015，345：109-115．
[5]Banerjee Tushar，Chattopadhyay K．Structural，mechanical and tribological properties of pulsedDC magnetron sputtered TiN-WSx/TiN bilayer coating
[J]．Surface& Coatings Technology，2015，282：24-35．
[6]Chen Xiao，Xi Yeting，Meng Jie，et al． Effects of substrate bias voltage on mechanical properties and tribological behaviors of RF sputtered multilayer TiN/CrAlN films [J]． Journal of Alloys and Compounds，2016，665：210-217．
[7]赵(zhao)海(hai)波，胡希(xi)川，何平，等(deng)．涂层(ceng)方法对薄膜(mo)表面(mian)形貌(mao)的影响[J]．工具(ju)技术，2006，40(3)：64-67．
[8]刘仁智，孙(sun)院(yuan)军(jun)，王快(kuai)社，等．Mo 靶(ba)材(cai)组(zu)织(zhi)对溅射(she)薄(bao)膜形(xing)貌以(yi)性(xing)能的影响[J]．稀(xi)有金(jin)属(shu)材料(liao)与(yu)工(gong)程(cheng)，2012，41(9)：1559-1563
[9]穆(mu)健刚(gang)，梁(liang)俊才(cai)，张(zhang)凤(feng)戈，等．钛铝(lv)靶(ba)材(cai)的(de)相(xiang)结(jie)构对(dui)涂(tu)层(ceng)结(jie)构和性能的(de)影响[J]．热加(jia)工工(gong)艺，2014，43(18)：143-146．
[10]赵永(yong)庆(qing)，洪(hong)权，葛(ge)鹏(peng)．钛(tai)及(ji)钛合金金(jin)相(xiang)图(tu)谱(pu)[M]．长(zhang)沙：中南大(da)学出版社(she)，2011．
[11]赵(zhao)永庆，陈(chen)永(yong)楠(nan)，张(zhang)学敏，等(deng)．钛合金相变及(ji)热处(chu)理[M]．长(zhang)沙(sha)：中南(nan)大(da)学出版(ban)社(she)，2012．
相关(guan)链(lian)接
