近些年(nian)来，平(ping)面(mian)显(xian)示(shi)器(qi)走(zou)进千家(jia)万户的(de)家庭之(zhi)中(zhong)，人(ren)们(men)看(kan)电视(shi)时(shi)的(de)液晶电(dian)视(shi)，智(zhi)能手(shou)机的触摸(mo)屏等(deng)等(deng)，这(zhe)些设(she)备(bei)都(dou)运用到了ITO靶(ba)材。在没(mei)有(you)这种材(cai)料(liao)之(zhi)前，人们(men)使用(yong)的(de)是(shi)台(tai)式(shi)电(dian)脑(nao)，台(tai)式电(dian)视，使(shi)用(yong)的(de)是滑(hua)盖手(shou)机(ji)，翻盖(gai)手机(ji)等(deng)。随(sui)着平板显(xian)示(shi)器(qi)尺(chi)寸大(da)型(xing)化的(de)发(fa)展，对(dui)ITO靶材(cai)尺寸(cun)及密度的要(yao)求也(ye)越来越高(gao)，热压(ya)设(she)备(bei)与(yu)技术(shu)已(yi)远远不(bu)能(neng)满(man)足其要(yao)求(qiu)。因此(ci)，以(yi)烧结工艺(yi)生产(chan)大尺寸(cun)、高密度(du)ITO靶(ba)材已(yi)成为(wei)国(guo)内(nei)各大(da)靶(ba)材(cai)生(sheng)产厂家研(yan)发(fa)的要(yao)点。
ITO靶(ba)主(zhu)要(yao)用于ITO膜透明(ming)导(dao)电玻璃(li)的制作，后(hou)者(zhe)是(shi)制造(zao)平面(mian)液晶显(xian)示的主(zhu)要(yao)材料，在(zai)电(dian)子工(gong)业、信息产(chan)业方(fang)面有(you)着(zhe)广阔(kuo)而重要的(de)应用(yong)。ITO靶材被(bei)广(guang)泛(fan)应(ying)用(yong)于各(ge)大(da)行业之(zhi)中(zhong)，但(dan)主要应用于(yu)平(ping)板显示(shi)器中，它是(shi)溅射(she)ITO导电薄(bao)膜的(de)主要(yao)原料(liao)，没(mei)有(you)它的(de)存(cun)在，诸多的(de)材(cai)料将(jiang)无法(fa)实现(xian)正常加(jia)工(gong)以及(ji)设(she)计。
ITO靶材的主要(yao)应(ying)用：
LCD经过长时(shi)间(jian)的(de)发展(zhan)后(hou)，产品质(zhi)量(liang)不断提升，成本(ben)也(ye)不断下降(jiang)，对(dui)ITO靶(ba)材(cai)的要求(qiu)也(ye)随之提高(gao)，因(yin)此(ci)，配合LCD的(de)发展(zhan)，未(wei)来(lai)ITO靶材发(fa)展大致有以(yi)下的(de)趋势：
1、降(jiang)低(di)电阻(zu)率
随着(zhe)LCD愈来愈(yu)精细化发(fa)展(zhan)的趋(qu)向，以(yi)及(ji)它(ta)的(de)驱动(dong)程序(xu)不(bu)同(tong)，需要更(geng)小电(dian)阻率(lv)的透(tou)明(ming)导(dao)电(dian)膜。
2、高(gao)密度(du)化(hua)
靶(ba)材(cai)密度(du)的改善(shan)直接带来(lai)的(de)益(yi)处主(zhu)要表现在(zai)减少(shao)黑化(hua)和降低(di)电(dian)阻(zu)率方(fang)面。靶材(cai)若为密(mi)度(du)小时，有(you)效(xiao)溅射(she)表(biao)面(mian)积(ji)会(hui)减(jian)少，溅(jian)射速(su)度(du)也会(hui)降(jiang)低(di)，靶(ba)材(cai)表面(mian)黑化(hua)趋(qu)势(shi)加(jia)剧(ju)。高(gao)密度(du)靶(ba)的(de)表(biao)面变(bian)化(hua)少，可以(yi)得到(dao)低(di)电阻膜。靶材密(mi)度(du)与寿(shou)命(ming)也(ye)有(you)关(guan)，高(gao)密(mi)度的(de)靶材(cai)寿(shou)命(ming)较长，意味着(zhe)可(ke)降(jiang)低(di)靶材成本(ben)。
3、尺(chi)寸大(da)型化
随着(zhe)液晶模块产(chan)品轻(qing)薄(bao)化(hua)和低价化(hua)趋势(shi)的不断发展，相(xiang)应(ying)的ITO玻(bo)璃(li)基板也出(chu)现了(le)明(ming)显的(de)大(da)型(xing)化(hua)的趋势，因此ITO靶(ba)材(cai)单片尺寸大(da)型化(hua)不可避(bi)免(mian)。
4、靶(ba)材(cai)本体(ti)整(zheng)体(ti)化
如前所(suo)述，靶材(cai)将(jiang)朝(chao)大面积(ji)发展，以(yi)往技术能力不足(zu)时，必(bi)须使(shi)用多片(pian)靶材拼焊(han)成(cheng)大面(mian)积，但由于接(jie)合处会造(zao)成镀(du)膜(mo)质量(liang)下(xia)降，因此目(mu)前(qian)大(da)多以(yi)一(yi)体(ti)成(cheng)形为主(zhu)，以提升(sheng)镀膜质(zhi)量(liang)与使(shi)用(yong)率(lv)。未(wei)来新(xin)世(shi)代LCD玻(bo)璃(li)基(ji)板(ban)尺寸的加(jia)大(da)，对靶(ba)材生(sheng)产(chan)厂家是(shi)一(yi)项严(yan)苛的(de)挑战(zhan)。
5、使用效(xiao)率(lv)高(gao)率化(hua)
靶(ba)材使用率(lv)的(de)提(ti)升，一(yi)直(zhi)是(shi)设(she)备商(shang)、使用(yong)者及(ji)靶(ba)材制造(zao)商共同(tong)努(nu)力的方(fang)向(xiang)。目前靶(ba)材利(li)用率可(ke)达40%，随(sui)着(zhe)液(ye)晶显(xian)示(shi)器行(xing)业(ye)对材料(liao)成(cheng)本(ben)要求(qiu)的提高(gao)，提高(gao)ITO靶(ba)材的(de)利用(yong)率(lv)也将是未来靶(ba)材(cai)研(yan)发的方向(xiang)之(zhi)一(yi)。
近(jin)年(nian)来，国(guo)内(nei)的(de)靶材厂(chang)家发(fa)展速度，以(yi)尤特新(xin)材料(liao)为首的(de)靶材(cai)生(sheng)产(chan)商，加大(da)了(le)研(yan)发的(de)投入，并(bing)引进国内外先(xian)进(jin)的生产和检验(yan)设(she)备，其(qi)制造(zao)的(de)靶材已(yi)达(da)到(dao)国外(wai)先进进口(kou)靶(ba)材的(de)品质(zhi)，5N6N的(de)高(gao)纯靶(ba)材生产(chan)技术(shu)也日(ri)趋成熟(shu)。相信(xin)，不(bu)久将(jiang)来，国(guo)内(nei)的靶(ba)材企业能在全(quan)部市(shi)场(chang)上也占(zhan)有一(yi)席(xi)之(zhi)地(di)。
相(xiang)关链(lian)接(jie)
