提(ti)升(sheng)磁(ci)控(kong)溅(jian)射(she)靶材(cai)利(li)用率(lv)的两(liang)种(zhong)工艺方法(fa)

磁(ci)控(kong)溅(jian)射技术(shu)是目前(qian)最(zui)重(zhong)要(yao)的工业(ye)化大(da)面积(ji)真(zhen)空(kong)镀膜技术(shu)之一，与(yu)其(qi)他的(de)溅射(she)镀膜相比，磁控溅(jian)射技(ji)术(shu)具(ju)有(you)高速(su)、低温、低损伤的(de)优点。一(yi)般(ban)这种(zhong)溅(jian)射方(fang)法被(bei)称为(wei)低温高速溅(jian)射法，但是磁控(kong)溅射法(fa)也(ye)有(you)很(hen)多缺(que)点，例如溅(jian)射中(zhong)不均匀(yun)冲(chong)蚀造(zao)成(cheng)的(de)溅(jian)射(she)靶材利用率低的(de)问(wen)题，所(suo)以(yi)如(ru)何(he)优(you)化(hua)溅射(she)技(ji)术(shu)提高(gao)靶材(cai)利用(yong)率(lv)就成(cheng)为(wei)了大家(jia)关注(zhu)的问(wen)题(ti)。对于提(ti)升铬靶、锆靶(ba)等(deng)磁控溅射靶(ba)材(cai)利(li)用率(lv)的(de)工艺(yi)技术(shu)，凯泽金(jin)属分(fen)享(xiang)如下(xia)：

1、优化磁(ci)控(kong)阴(yin)极结(jie)构(gou)

优化(hua)磁(ci)控阴(yin)极结构，就(jiu)是通过(guo)对磁钢进(jin)行(xing)恰当(dang)切(qie)削 ，其(qi)将中间磁钢形状进(jin)行改变 ，让(rang)磁钢(gang)变(bian)为端头向(xiang)中(zhong)间收(shou)窄，而(er)两侧(ce)磁(ci)钢(gang)进行单(dan)边(bian)切削，扩大(da)磁场的(de)范(fan)围进(jin)而提高(gao)了靶(ba)的利(li)用率(lv)。这种(zhong)方式可(ke)以(yi)使得(de)靶材(cai)利(li)用(yong)率(lv)达(da)到(dao)40%-50%。

2、分(fen)流设(she)计(ji)法(fa)

分(fen)流(liu)设计法就是(shi)在(zai)靶材(cai)跟(gen)磁(ci)极之(zhi)间放置(zhi)一定(ding)形状(zhuang)的铁(tie)磁(ci)体垫(dian)片，这(zhe)就会使得(de)靶面(mian)附(fu)近(jin)的磁场(chang)分布更均(jun)匀(yun)，这样不仅(jin)可以(yi)使得(de)整(zheng)个喷溅过程(cheng)更均匀，而(er)且(qie)还可以(yi)使得靶(ba)材的利用率提(ti)高(gao)到(dao)86%，也会在一(yi)定程(cheng)度上(shang)延(yan)长靶材的寿(shou)命(ming)。

动(dong)态(tai)的(de)方法就(jiu)是(shi)动(dong)态的变换(huan)靶面闭合(he)磁(ci)场的(de)分(fen)布(bu)，从而(er)改变(bian)靶面(mian)的(de)等离子刻蚀区(qu)，以提(ti)高(gao)靶(ba)材(cai)的(de)利用(yong)率与(yu)薄膜(mo)的(de)稳(wen)定性。一(yi)般采用的方法就是在(zai)磁(ci)体结构下(xia)加(jia)一个(ge)运(yun)动机构(gou)，电(dian)机带(dai)着(zhe)磁体(ti)做往复运动(dong)，增(zeng)大(da)刻蚀面积，并(bing)且(qie)可以(yi)使不同(tong)靶材(cai)在(zai)镀(du)膜(mo)时(shi)都得(de)到(dao)最(zui)佳(jia)的(de)性(xing)能(neng)。

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