一(yi)、产品名称:钛(tai)锻件、钛方块、钛(tai)块
1、牌(pai)号、规(gui)格(ge)、状(zhuang)态
牌(pai)号(hao):TA1、TA7、TA9、TA10、TA15、TA18、TA19、TC4、TC6、TC11、TC18、TB6
规(gui)格(ge):φ50--1200mm×L 30----600mm
交(jiao)货(huo)状态(tai):退(tui)火态(tai)(M) 热(re)加工状态(tai)(R) 冷加(jia)工(gong)状(zhuang)态(Y)(退(tui)火(huo),超生(sheng)波探伤(shang))。
加工工艺(yi):熔(rong)炼(lian)-探(tan)伤--锻造--退火—车(che)光—探伤(shang)。
金(jin)相组(zu)织:晶(jing)相(xiang)组(zu)织级(ji)别(bie)可提(ti)供A3—A4。
标准(zhun):GB/T16598-1996,GB/T13810-2007, GB/T2965-2007,ASTM B381,ASTM B348, ASTM F67,ISO5832-2ASTM F136, ISO5832-3, AMS4928, MIL4911。
应(ying)用(yong)领域(yu) :钛块(kuai)主(zhu)要(yao)应用(yong)于医疗、航(hang)空、军(jun)工、石油化工、冶金、电(dian)镀、真空(kong)镀膜、体育等(deng)行(xing)业。
注:经(jing)双方协商可以(yi)供(gong)应(ying)其他(ta)规(gui)格或型式的产品。
2、尺寸(cun)允许偏差(mm)
饼(bing)直径(jing) | 偏差(cha) | 截(jie)面(mian)高度(du) | 偏差(cha) |
| 150~300 | +3-1 | 35~140 | +3-1 |
| >300~500 | +3-1 | 35~150 | +3-1 |
| >500~1200 | +3-1 | 40~110 | +4-2 |
| ---------- | ---------- | ---------- | ---------- |
3、室温(wen)力(li)学性(xing)能
牌号 | 截(jie)面(mian)积(ji)cm2 | 室温力(li)学(xue)性(xing)能,不小(xiao)于(yu) |
| 抗(kang)拉强(qiang)度 σb,MPa | 规定残(can)余(yu)伸(shen)长(zhang)应力(li) Σr0.2MPa | 伸长(zhang)率(lv) δ5,% | 断面收(shou)缩率ψ,% |
| TA0 | ≤100 | 280 | 170 | 30 | 35 |
| TA1 | 370 | 250 | 20 | 35 |
| TA2 | 440 | 320 | 18 | 35 |
| TA3 | 540 | 410 | 15 | 30 |
| TA9 | 370 | 250 | 20 | 30 |
| TA10 | 485 | 345 | 18 | 25 |
| TC4 | 895 | 825 | 10 | 25 |
| TC11 | 1030 | 900 | 10 | 30 |
注:
1、表(biao)中(zhong)意外(wai)产(chan)品,需方需(xu)要测(ce)定(ding)室温(wen)力(li)学(xue)性能时(shi),指标应(ying)经双(shuang)方(fang)协商(shang)并(bing)在合同(tong)中注明。
2、需方(fang)要(yao)求(qiu)测定(ding)TC4钛(tai)合金高(gao)温(wen)力(li)学(xue)性(xing)能时,其(qi)实(shi)验温(wen)度及性(xing)能指(zhi)标应(ying)经双方协(xie)商(shang)并在合同(tong)中注(zhu)明。

二(er)、产(chan)品名称(cheng):镍靶(ba)材、镍(nie)旋(xuan)转靶
牌号(hao):N6, N4
用(yong)途:用于半导体(ti)分(fen)离(li)器件、平(ping)面(mian)显(xian)示器(qi)、储(chu)存(cun)器(qi)电极薄膜、溅(jian)射镀(du)膜、工(gong)件表面(mian)涂层(ceng),玻(bo)璃镀(du)膜工(gong)业(ye)等(deng)。

三、产品名称(cheng):铬(ge)靶材(cai)、铬靶(ba)块(kuai)
产(chan)地(di):宝(bao)鸡
铭(ming)含(han)量(liang) : 99.5%
杂质含量(liang): 0.5%
重量(liang) :不(bu)等(deng)( kg/块)
用途:铬(ge)靶材(cai)用(yong)于(yu)半(ban)导(dao)体分离(li)器(qi)件、平(ping)面显(xian)示(shi)器(qi)、储(chu)存器(qi)电(dian)极(ji)薄膜(mo)、溅(jian)射镀膜(mo)、工件表(biao)面(mian)涂层,玻璃镀(du)膜(mo)工业等(deng)领(ling)域。

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