1、 靶材(cai)的定义
靶材(cai)是(shi)通过物理气(qi)相沉(chen)积(ji)技术镀膜的(de)溅(jian)射(she)源。在沉(chen)积(ji)镀(du)膜(mo)过(guo)程中，溅(jian)射源犹(you)如靶子(zi)，受(shou)到离子(zi)束和电(dian)子(zi)束的轰击，就像打靶一(yi)样(yang)，所(suo)以(yi)就称(cheng)目标溅射源(yuan)材(cai)料(liao)为(wei)靶材(cai) 。
溅射(she)靶(ba)材(cai)属于(yu)靶材(cai)的一种，是通过(guo)磁(ci)控溅(jian)射(she)技(ji)术，形成(cheng)的高(gao)能(neng)离(li)子(zi)束轰(hong)击(ji)基(ji)体溅(jian)射源(yuan)材料，使(shi)基体(ti)材(cai)料(liao)的(de)原(yuan)子被溅射出镀在(zai)表(biao)面沉(chen)积成(cheng)膜(mo)，这(zhe)种被(bei)溅(jian)射镀(du)膜(mo)的材料(liao)就称(cheng)为(wei)溅射靶材 。溅(jian)射靶(ba)材(cai)的(de)实物图(tu)如(ru)下(xia)图(tu)1所示:
图1 溅射(she)靶材(cai)实物图
2、靶材(cai)的分(fen)类
根(gen)据靶材材料(liao)种(zhong)类的(de)不(bu)同(tong)，主要(yao)分(fen)为金(jin)属(shu)靶(ba)材、合金靶材和(he)陶(tao)瓷靶(ba)材(cai) 。
1）金属靶材
铝(lv)靶(ba)、铜(tong)靶(ba)、钼靶、钨靶(ba)等金属(shu)溅射(she)靶材。
2）合金靶材
铝硅合金(jin)靶(ba)、镍铜合(he)金靶(ba)、镍钒合金靶(ba)等高纯(chun)合(he)金(jin)溅射(she)靶(ba)材。
3）陶(tao)瓷靶材
ITO 靶(ba)、氧化(hua)锌靶、二氧(yang)化硅(gui)靶(ba)、二氧化锆(gao)靶等陶瓷溅射靶材(cai)。
3、靶(ba)材的(de)应用(yong)
靶材作为一(yi)种镀(du)膜(mo)材料(liao)通(tong)过(guo)物理(li)沉(chen)积或(huo)化(hua)学(xue)方(fang)法在(zai)基体(ti)表面(mian)生成(cheng)一(yi)层薄膜，利(li)用这(zhe)层(ceng)薄(bao)膜(mo)的良(liang)好(hao)光(guang)电、磁(ci)导和(he)物理(li)化(hua)学(xue)功能(neng)，可以(yi)制(zhi)备(bei)出不(bu)同(tong)功(gong)能(neng)的(de)电(dian)子元件(jian)和(he)产(chan)品(pin) 。主(zhu)要(yao)广(guang)泛应(ying)用(yong)于(yu)以下领域(yu)中:
1）微(wei)电(dian)子领(ling)域
半(ban)导体(ti)电(dian)子(zi)产(chan)业在所(suo)有靶(ba)材(cai)的(de)应用(yong)领域中需求量最大。特(te)别(bie)是(shi)随着(zhe)集(ji)成(cheng)电路的(de)发(fa)展，从小规模集(ji)成电路(lu)到(dao)大规(gui)模(mo)集(ji)成(cheng)电路(lu)的转(zhuan)化，大(da)量需(xu)要高纯(chun)靶(ba)材(cai)作(zuo)为电路配线，提(ti)高计(ji)算机(ji)的运(yun)算效(xiao)率(lv)。并(bing)且在(zai)此(ci)领(ling)域对(dui)靶(ba)材(cai)的要求(qiu)最高，不仅(jin)在(zai)纯(chun)度(du)上达(da)到(dao)高(gao)纯 5N 以(yi)上，并(bing)且在(zai)晶粒尺寸、内(nei)部组(zu)织(zhi)、织构(gou)等(deng)方(fang)面有很(hen)高的(de)要求(qiu)。
2）显(xian)示器(qi)
靶(ba)材(cai)也(ye)主(zhu)要(yao)应用于(yu)平面(mian)显(xian)示器(FPD) 中(zhong)，其中最(zui)常(chang)用(yong)的是液(ye)晶(jing)显(xian)示(shi)器(qi)(LCD)。LCD 广泛(fan)应用于(yu)手(shou)机(ji)显示(shi)屏(ping)、平(ping)板(ban)显示屏和(he)笔(bi)记(ji)本(ben)显示屏，而液晶显示(shi)屏(ping)主要采(cai)用溅射的(de)方(fang)法制得 。因(yin)此(ci)溅(jian)射(she)靶材(cai)在(zai)液(ye)晶显示(shi)屏(ping)领(ling)域(yu)中(zhong)起(qi)着重(zhong)要(yao)的(de)作(zuo)用(yong)，其中(zhong) ITO 靶材在显示器(qi)领域中迅速发(fa)展(zhan)起(qi)来。
3）存储(chu)
随着现(xian)在计(ji)算(suan)机的(de)应用(yong)和(he)信(xin)息(xi)技术的(de)发(fa)展(zhan)，对信(xin)息的储存(cun)也(ye)至关重(zhong)要。而靶材作为新型的(de)磁光(guang)记(ji)忆(yi)材(cai)料(liao)，制(zhi)备(bei)出(chu)磁(ci)光(guang)盘(pan)和硬(ying)盘(pan)的(de)储(chu)存器(qi)具有(you)大容(rong)量、高(gao)致(zhi)密(mi)度和(he)寿(shou)命(ming)长(zhang)的(de)优(you)点，将广泛(fan)应(ying)用(yong)于(yu)信息(xi)储存产业中(zhong)。
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