铬(ge)靶(ba)厂(chang)家谈(tan)蒸发(fa)镀(du)膜和溅射(she)镀(du)膜有什么(me)区别

凯(kai)泽(ze)金(jin)属，宝鸡钛(tai)靶(ba)、铬靶(ba)、镍(nie)靶、锆(gao)靶(ba)等靶材生产厂家(jia)，多年来(lai)专(zhuan)注(zhu)钛多(duo)弧靶(ba)、平面靶、板(ban)靶(ba)、管靶(ba)、旋转靶等靶(ba)材的(de)深(shen)加工(gong)，有关靶材镀(du)膜的(de)工艺(yi)，结(jie)合蒸(zheng)发镀(du)膜、溅(jian)射(she)镀(du)膜(mo)的两(liang)种(zhong)不同(tong)，结(jie)合(he)相关资(zi)料(liao)，分享(xiang)如(ru)下(xia)：

真空(kong)蒸发膜(mo)是(shi)在真(zhen)空(kong)度(du)不(bu)低于(yu)10-2Pa的(de)环境中(zhong),用(yong)电阻(zu)加(jia)热(re)或电(dian)子(zi)束和激(ji)光轰击等(deng)方法(fa)把(ba)要蒸发的材(cai)料加热(re)到(dao)定(ding)温(wen)度,使(shi)材料(liao)中分子或原(yuan)子的热(re)振动(dong)能(neng)量(liang)超(chao)过表(biao)面(mian)的束缚(fu)能,从而(er)使大量(liang)分(fen)子或(huo)原(yuan)子蒸发(fa)或升(sheng)华(hua),并直(zhi)接(jie)沉淀(dian)在基(ji)片上形成(cheng)薄膜。离(li)子泥射镀膜(mo)是(shi)利用气(qi)体放电(dian)产(chan)生(sheng)的(de)正离(li)子(zi)在(zai)电(dian)场(chang)的(de)作(zuo)用(yong)下的高(gao)谏(jian)运动(dong)轰(hong)击作(zuo)为阴(yin)极的靶,使靶材(cai)中的原(yuan)子(zi)或分子(zi)逸(yi)出来而(er)沉(chen)淀到(dao)被镀(du)工(gong)件(jian)的表面(mian),形成(cheng)所需(xu)要的(de)薄膜。

真(zhen)空(kong)蒸发镀膜最常(chang)用的(de)是(shi)电胆加(jia)热法,其优点是加热(re)源(yuan)的结构简单(dan),造价低(di)廉,操作(zuo)方(fang)便(bian)缺点是不适(shi)用于(yu)难焰(yan)金(jin)属和(he)耐高(gao)温(wen)的(de)介(jie)质材(cai)料。电(dian)子束加(jia)热(re)和激(ji)光加热(re)则能克(ke)服电(dian)阻加热(re)的缺(que)点。电子(zi)束(shu)加(jia)热(re)上(shang)利(li)用(yong)聚焦电子束直接对被轰击(ji)材料(liao)加热,电子(zi)束(shu)的动能变(bian)成热能,使材(cai)料(liao)蒸发。激光(guang)加热是利用(yong)大功率(lv)的(de)激光作为(wei)加热(re)源,但由于(yu)大功(gong)率(lv)激光器的造(zao)价(jia)很高,目前(qian)只能(neng)在少数(shu)研究性(xing)实(shi)验室中使(shi)用。

相(xiang)关链接(jie)