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        高纯镍(nie)靶(ba)材

        材(cai)质:镍(nie)(Ni)含(han)量(liang)≥99.9%

        执行(xing)标准(zhun): STM B160、ISO 6283、GB/T 5235、SJ/T 11485

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        发布(bu)日期(qi): 2023-07-21 16:25:44

        全(quan)国热线(xian): 0917-3376170

        详(xiang)细(xi)描(miao)述 / Detailed description

        1、定义与材质(zhi)

        定(ding)义(yi):

        高(gao)纯镍靶材(cai)是(shi)以纯度≥99.9%(通常为(wei)99.95%~99.999%)的(de)金(jin)属(shu)镍为(wei)原料(liao),通(tong)过(guo)熔炼(lian)、锻造(zao)、轧(ya)制(zhi)等工艺(yi)制(zhi)成的(de)片(pian)状或块(kuai)状(zhuang)材(cai)料(liao),主(zhu)要(yao)用于(yu)物(wu)理气相(xiang)沉(chen)积(PVD)、磁控(kong)溅射(she)等(deng)镀膜(mo)工(gong)艺。

        材(cai)质特性(xing):

        成(cheng)分:镍(Ni)含(han)量(liang)≥99.9%,杂(za)质元(yuan)素(如Fe、C、S、O等)严(yan)格控制(zhi)在(zai)ppm级(ji)。

        形态:常见为(wei)圆形(xing)、矩形或异形(xing)靶(ba)材,表面(mian)需高精(jing)度抛(pao)光(guang)(粗(cu)糙度(du)Ra≤0.8μm)。

        2、性(xing)能与(yu)特点(dian)

        核(he)心性能(neng):

        高(gao)导电性(xing):镍(nie)的电阻率(lv)低(di)(6.9×10⁻⁸ Ω·m),适合(he)高频电(dian)子器件(jian)镀膜。

        耐腐(fu)蚀(shi)性(xing):在(zai)常(chang)温(wen)下(xia)对(dui)酸(suan)、碱、盐(yan)溶(rong)液及(ji)大(da)气腐蚀有良(liang)好抗性。

        高熔点(1455℃):适(shi)用(yong)于高(gao)温(wen)溅射环(huan)境。

        强结(jie)合力:镀膜与(yu)基(ji)材附着力(li)优异。

        独特(te)优(you)势(shi):

        溅(jian)射(she)速(su)率(lv)快,膜(mo)层均(jun)匀(yun)致(zhi)密(mi);

        可加(jia)工成(cheng)复杂形状(zhuang),兼(jian)容(rong)多(duo)种(zhong)镀膜(mo)设(she)备;

        高纯(chun)度(du)确(que)保(bao)镀(du)膜低(di)缺陷,适(shi)用(yong)于(yu)精密(mi)电(dian)子(zi)领域(yu)。

        3、应用(yong)领域(yu)

        半导体制造:用(yong)于(yu)集成(cheng)电(dian)路(IC)中(zhong)的(de)金(jin)属互连(lian)层(ceng)、阻挡(dang)层。

        显示(shi)面板(ban):TFT-LCD、OLED的(de)电(dian)极(ji)镀膜(mo)。

        太(tai)阳能(neng)电池(chi):薄(bao)膜(mo)太(tai)阳(yang)能(neng)电(dian)池的(de)背电(dian)极(ji)材料(liao)。

        光(guang)学镀(du)膜(mo):镜(jing)面(mian)反(fan)射(she)涂层、防(fang)反射(she)膜(mo)。

        磁性材料:磁(ci)记(ji)录(lu)介质(如硬(ying)盘)的磁性层(ceng)。

        装(zhuang)饰镀(du)层:手机外壳(ke)、珠宝的(de)耐(nai)磨(mo)装饰(shi)镀(du)膜。

        4、执(zhi)行标准(zhun)

        国(guo)际(ji)标(biao)准:

        ASTM B160(镍(nie)及(ji)镍(nie)合金(jin)棒(bang)材(cai)标准);

        ISO 6283(金属靶(ba)材(cai)表面(mian)质量规范(fan))。

        国(guo)内标准(zhun):

        GB/T 5235(高(gao)纯镍靶(ba)材(cai)技术要(yao)求);

        SJ/T 11485(电(dian)子(zi)行业溅(jian)射(she)靶(ba)材标准(zhun))。

        5、与其他(ta)靶材(cai)的(de)区别(bie)

        靶材类型核(he)心(xin)特性主(zhu)要应(ying)用(yong)领域对比高纯镍靶材(cai)
        钛靶(ba)材轻质、耐高温(wen)氧化(hua)航(hang)空(kong)航(hang)天、生物(wu)医(yi)疗(liao)钛更(geng)轻,但(dan)导电(dian)性(xing)差,需(xu)掺杂(za)使用(yong)。
        锆(gao)靶材(cai)耐腐(fu)蚀(shi)、中子吸收核工业、化(hua)工防腐(fu)锆(gao)耐蚀(shi)性(xing)更(geng)强(qiang),但成(cheng)本(ben)高,加工(gong)难度大(da)。
        钽靶材(cai)高(gao)熔点、耐(nai)酸(suan)碱(jian)半(ban)导(dao)体阻(zu)挡(dang)层(ceng)、电(dian)容(rong)器(qi)钽更(geng)耐蚀,但价格(ge)昂贵(gui),溅射速(su)率(lv)低(di)。
        铌靶材超(chao)导性(xing)能、低温韧性超(chao)导材(cai)料(liao)、航空航(hang)天铌超(chao)导性突(tu)出,但纯度(du)要(yao)求更高。
        铝(lv)靶材轻(qing)质、低成(cheng)本(ben)反(fan)射镜、包装材(cai)料铝(lv)成(cheng)本低,但(dan)硬度低,耐(nai)磨(mo)性差。
        铜(tong)靶材(cai)超(chao)高导电(dian)性(xing)、导热性(xing)芯片(pian)互(hu)连、散热(re)涂层铜导(dao)电(dian)性优(you)于镍,但易氧化,需(xu)加阻挡层。

        6、前(qian)景展望(wang)与深(shen)度应用需(xu)求(qiu)

        1)技术(shu)趋势(shi):

        半导(dao)体(ti)小(xiao)型化(hua):3nm以(yi)下(xia)制(zhi)程对高纯镍靶(ba)材(cai)的纯(chun)度(du)(≥99.999%)和晶(jing)粒(li)均(jun)匀性(xing)提(ti)出更高要求。

        新(xin)能源扩(kuo)展(zhan):固态电池电极(ji)镀膜、氢能催(cui)化(hua)层(ceng)需求(qiu)增长(zhang)。

        先进显示(shi)技(ji)术:Micro LED巨(ju)量(liang)转(zhuan)移中(zhong)的(de)金(jin)属键(jian)合层依赖(lai)高精度(du)镍镀(du)膜。

        2)挑(tiao)战与机遇:

        国产(chan)替(ti)代:突(tu)破(po)高(gao)纯(chun)镍提纯(chun)技术(shu)(如区(qu)域熔炼(lian)法(fa)),降低进口依赖(lai);

        复(fu)合(he)靶(ba)材开(kai)发(fa):镍基(ji)合金(jin)靶(ba)材(如(ru)Ni-Cr、Ni-Ti)满(man)足(zu)多功(gong)能镀膜(mo)需(xu)求。

        7、选(xuan)购方法与(yu)注(zhu)意(yi)事(shi)项(xiang)

        1)选(xuan)购要(yao)点:

        纯度验证:要求供(gong)应(ying)商(shang)提供ICP-MS检(jian)测(ce)报告(杂(za)质含(han)量(liang)≤100ppm);

        晶(jing)粒(li)尺(chi)寸(cun):均匀(yun)的(de)纳米(mi)级晶粒(≤50nm)可提升镀膜(mo)质量(liang);

        密度控制:靶材密度(du)≥8.9g/cm³(接(jie)近理(li)论值8.908g/cm³);

        供(gong)应商资质:优先选择(ze)通(tong)过(guo)ISO 9001和(he)IATF 16949认(ren)证(zheng)的厂(chang)商。

        2)使用注(zhu)意(yi)事(shi)项:

        存(cun)储(chu):真(zhen)空包(bao)装(zhuang),避免氧化和表面(mian)污染;

        安(an)装:靶(ba)材与背(bei)板(ban)需紧(jin)密(mi)贴(tie)合,防(fang)止(zhi)溅射(she)过(guo)程中(zhong)局部过(guo)热(re);

        工(gong)艺(yi)匹(pi)配(pei):根据设备功(gong)率调整溅(jian)射参(can)数(如(ru)气压(ya)、功率密度(du)),减(jian)少结(jie)瘤问题。

        高纯镍(nie)靶(ba)材(cai)凭借(jie)其(qi)优异(yi)的(de)导电(dian)性、耐(nai)腐蚀性和镀膜性(xing)能(neng),在(zai)半(ban)导(dao)体、新能(neng)源(yuan)等(deng)领(ling)域(yu)占(zhan)据重(zhong)要(yao)地(di)位。与钛、锆等(deng)靶材(cai)相(xiang)比,其(qi)在成本(ben)与(yu)性(xing)能(neng)间实现(xian)了(le)较好(hao)平(ping)衡(heng)。未来(lai)随(sui)着技(ji)术(shu)迭(die)代,高纯(chun)镍(nie)靶材(cai)的(de)纯(chun)度提(ti)升和(he)复合化(hua)将是(shi)主(zhu)要发(fa)展方(fang)向(xiang)。

        建(jian)议用(yong)户:根据(ju)具(ju)体(ti)应(ying)用场(chang)景(如镀膜(mo)厚(hou)度、基(ji)材类型)选择靶材(cai)规(gui)格(ge),优先(xian)与具备(bei)定制化能力的供应商(shang)合(he)作,并(bing)定期(qi)检(jian)测靶材使用后的表(biao)面(mian)状(zhuang)态以优(you)化(hua)工(gong)艺。

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