高纯(chun)钛(tai)靶(ba)

TA2高(gao)纯(chun)钛(tai)靶通(tong)过提(ti)纯工(gong)艺在保(bao)留(liu)工(gong)业纯(chun)钛(tai)成(cheng)本(ben)优势的同时，提(ti)升(sheng)了纯度(du)与(yu)溅射(she)性(xing)能(neng)，成(cheng)为中端(duan)工业涂(tu)层的理(li)想(xiang)选(xuan)择(ze)。其(qi)性(xing)价(jia)比(bi)显(xian)著(zhu)高(gao)于(yu)4N5级(ji)高(gao)纯钛靶(ba)，但(dan)薄(bao)膜(mo)性能(neng)（如(ru)电阻(zu)率、耐高(gao)温(wen)性）略(lve)逊于(yu)后者。选购时需(xu)重(zhong)点把控(kong)Fe、O杂质含量(liang)及晶(jing)粒(li)均(jun)匀性(xing)，应用(yong)中(zhong)需(xu)优化(hua)溅射(she)气(qi)体(ti)比(bi)例(li)与基片温度(du)。对于要求严苛的(de)半(ban)导体或光学(xue)镀膜，仍需选(xuan)用4N5级(ji)以(yi)上靶(ba)材；而在工(gong)具(ju)强(qiang)化(hua)、通(tong)用(yong)防(fang)腐(fu)领域... 【详情】

TA1高(gao)纯钛(tai)靶管通过(guo)提(ti)纯工(gong)艺在(zai)保留(liu)工(gong)业纯钛(tai)成本优势(shi)的(de)同时，显著提(ti)升(sheng)了杂(za)质(zhi)控制水(shui)平(ping)与溅(jian)射(she)效率，成(cheng)为中(zhong)端镀膜(mo)市(shi)场的(de)理(li)想选择。其性(xing)价比(bi)优于4N5级(ji)靶管，且比TA2靶管更(geng)适合要求较(jiao)高的耐(nai)磨(mo)与(yu)光学(xue)应用。选购时(shi)需(xu)严(yan)格(ge)把(ba)控纯度(du)、几(ji)何精度及供应商(shang)的(de)工艺成熟(shu)度，使(shi)用(yong)中(zhong)需(xu)优化溅射(she)参(can)数并(bing)定(ding)期维护... 【详情(qing)】

异形(xing)钛(tai)靶材通过(guo)定(ding)制(zhi)化(hua)设(she)计解(jie)决(jue)了(le)复杂结构镀(du)膜的(de)行(xing)业痛点，尽管(guan)初(chu)期(qi)成本(ben)与(yu)周期较高(gao)，但(dan)其在(zai)材料利用(yong)率、镀膜(mo)精(jing)度(du)上的优势显(xian)著。选(xuan)购时(shi)需紧(jin)密协同设(she)计(ji)与(yu)工(gong)艺(yi)团队，优(you)先(xian)选择(ze)具(ju)备(bei)增材(cai)制造(zao)与精(jing)密加工能(neng)力(li)的(de)供应商(shang)，并通过小批量试(shi)制(zhi)验(yan)证可行(xing)性(xing)。在半(ban)导体(ti)3D集成(cheng)、航空航天(tian)高温(wen)涂层等前沿(yan)领域(yu)... 【详情(qing)】

集(ji)成电(dian)路(lu)（IC）用钛靶(ba)材(cai)是通(tong)过(guo)物(wu)理气(qi)相沉积(ji)（PVD）工(gong)艺(yi)（如磁(ci)控(kong)溅射、离(li)子镀(du)）在硅基芯片表(biao)面沉积(ji)钛薄(bao)膜(mo)的高纯(chun)度(du)材料，主要(yao)用(yong)于导电(dian)粘(zhan)附层、扩(kuo)散(san)阻(zu)挡(dang)层(ceng)及(ji)接(jie)触(chu)孔填(tian)充(chong)。其核(he)心(xin)作用... 【详情(qing)】

产(chan)品名(ming)称：钛(tai)靶(ba)块(kuai)执行(xing)标准： GB/T2695-1996，ASTM B348-97产(chan) 地(di)：陕(shan)西(xi)宝(bao)鸡材(cai) 质(zhi)：Ti纯(chun) 度：99.9%-99.99%晶(jing) 粒 度：<100um规(gui)格(ge)：可(ke)以按照(zhao)用(yong)户需要(yao)定制(zhi)应(ying)用(yong)领域：适(shi)用(yong)电子、五(wu)金(jin)、钟(zhong)表(biao)、眼镜(jing)、... 【详情(qing)】

产品(pin)名称(cheng)：钛靶材(cai)、钛多弧靶, 钛靶(ba)块(kuai)，钛块牌号(hao)：TA0，TA1，TA2，GR1，GR2执行(xing)标准：GB/T2695-1996，ASTM B348-97用途：用于半导(dao)体分(fen)离(li)器(qi)件(jian)、平面显(xian)示器(qi)、储存器电(dian)极(ji)薄膜(mo)、溅射(she)镀(du)膜(mo)、工件(jian)表面(mian)涂... 【详情】